[发明专利]采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法在审
申请号: | 202111222144.8 | 申请日: | 2021-10-20 |
公开(公告)号: | CN113735591A | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 李华鑫;沈伟健;杨建国;贺艳明;郑文健;闾川阳;马英鹤;郑勇;魏连峰 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C04B35/565 | 分类号: | C04B35/565;C04B35/622;C04B35/645 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 汤明 |
地址: | 310014 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 放电 等离子 烧结 制备 掺杂 导电 碳化硅 陶瓷 方法 | ||
1.采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)球磨混料:
在氧化锆球磨罐中用氧化锆球对氧化铝、氧化钇和碳化硅粉末进行湿法球磨;
2)粉末干燥与装配:
2.1)球磨后的混合粉末进行过滤筛分,倒入玻璃容器内,然后置于干燥箱中于50~70℃下干燥6h,干燥以后的粉末再用研钵进行手工粉碎;
2.2)将混合干燥以后的粉末进行装配,装配容器包括石墨模具和石墨压头;
2.3)采用压片机对装配好后的粉末进行预压,预压压力为5~10MPa;
3)高温烧结:
将预压后的粉末置于放电等离子烧结炉中进行高温烧结,烧结气氛为氮气,升温速率为50~100℃/min,烧结温度为1850~2000℃,烧结时间为1~10min,烧结压力为40~50MPa。
2.根据权利要求1所述的采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法,其特征在于,所述的步骤1)中,所述氧化铝和氧化钇总含量在2-6wt%,且氧化铝和氧化钇的质量比为3:2。
3.根据权利要求1或2所述的采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法,其特征在于,所述的步骤1)中,粉末纯度均达到99.9%,其中氧化铝和氧化钇粉末粒度为微米级,所选用的碳化硅粉末为纳米级的β-SiC,并且湿法球磨的介质优选丙酮。
4.根据权利要求1所述的采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法,其特征在于,所述的步骤1)中,球磨的设备为全方位行星式球磨机,以200~400r/min转速单向运行4~8h。
5.根据权利要求1所述的采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法,其特征在于,所述的步骤2.2)中,石墨模具采用高强度石墨材料。
6.根据权利要求1所述的采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法,其特征在于,所述的步骤3)中,氮气压力始终低于0.5MPa。
7.根据权利要求1所述的采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法,其特征在于,所述的步骤3)中,当烧结过程结束后,直接关闭程序进行自然降温至室温。
8.根据权利要求1所述的采用放电等离子烧结制备氮掺杂导电碳化硅陶瓷的方法,其特征在于,所述的步骤3)中,制备的碳化硅陶瓷的电阻率10-3~101Ω·cm,致密度均大于96%,硬度为14.58~24.69GPa,弹性模量为310.97~400.12GPa,断裂韧性为1.97~2.69MPa·m1/2MPa·m1/2,材料中的氮含量0.17~1.95wt%。
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