[发明专利]可实现反射光定向抑制和增强的Anti-PT对称RS光子晶体结构在审
申请号: | 202111232274.X | 申请日: | 2021-10-22 |
公开(公告)号: | CN113934077A | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 杨荣 | 申请(专利权)人: | 湖北科技学院 |
主分类号: | G02F1/35 | 分类号: | G02F1/35;G02F1/355 |
代理公司: | 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 | 代理人: | 刘喜 |
地址: | 437100 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 实现 反射光 定向 抑制 增强 anti pt 对称 rs 光子 晶体结构 | ||
本发明提供了一种可实现反射光定向抑制和增强的Anti‑PT对称RS光子晶体结构,属于全光通讯技术领域。包括两个RS光子晶体。由两种折射率高、低不同电介质薄片按照RS序列规则依次堆叠而成,形成关于中心原点对称分布结构;通过调制各电介质薄片的折射率虚部,使光子晶体结构满足Anti‑PT对称分布:n(z)=‑n*(‑z);整个结构可以表示成:HHHLHHLHHHHLLLHLL'H'L'L'L'H'H'H'H'L'H'H'L'H'H'H',其中电介质薄片H和L'表示为高折射率的第一电介质层,电介质薄片H'和L表示低折射率的第二电介质层。本发明具有能够实现光波反射率的定向抑制或增强等优点。
技术领域
本发明属于全光通讯技术领域,涉及一种可实现反射光定向抑制和增强的Anti-PT对称RS光子晶体结构。
背景技术
当电介质的折射率存在虚部时,即材料中存在增益或损耗时,左、右入射光的反射谱不重合。特别地,当系统的折射率在空间上满足PT(Parity-time:宇称-时间)对称时,左、右入射的反射谱中反射率零点位置不同。这样,当同一波长的光波从左、右两个方向分别入射时,就会存在一边反射率为零,而另一边反射率为一有限值的情形。这种效应可被应用于光学定向隐身。
在PT对称的光学系统中,折射率空间在上满足条件:n(z)=n*(-z),其中z为位置坐标。若将折射率写成形式n=nr+ini,其中nr为折射率的实部,ni为折射率的虚部,字母i表示虚数单位,则PT对称条件可以分解为:nr(z)=nr(-z)和ni(z)=-ni(-z),即折射率实部关于原点偶对称,而虚部关于原点奇对称。
在研究反射光束的横向位移时,需要用到部分反射的反射光,并且在共振态附近,光束的横向位移效应最大,而PT对称系统的共振模反射率一般都为零,这对探测反射光束的横向位移十分不利。另外,在探索反射光束横向位移的空间非互易性时,器件对左、右入射光的反射率不同,也是空间非互易性的重要研究内容。
带缺陷的光子晶体中存在反射率为零的缺陷模,一般地,可以通过提高材料中的损耗来增强缺陷模的反射率,但是,左、右反射率曲线是重合的,不存在空间非互易性。
在准周期光子晶体(准光子晶体),天然地存在多个缺陷层,且其缺陷模的反射率不为零。另外,Anti-PT(Anti-parity-time:反PT)对称系统可以在不改变缺陷摸位置的情况下,实现左、右入射光的反射非互易,即在缺陷模位置处,左、右反射谱不同。另外,调控反PT对称系统中的增益-损耗系统,可以分别实现对左、右反射光的抑制和增强。反PT对称的光学系统,其折射率空间上满足条件n(z)=-n*(-z),折射率实部和虚部分别满足条件nr(z)=-nr(-z)和ni(z)=ni(-z),即实部关于原点奇对称,虚部关于原点偶对称。因此,可以考虑将Anti-PT于准光子晶体结合,得到反射率不为零的缺陷模,并研究其反射光束的空间非互易性,是十分有意义的事情。
发明内容
本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题,提供一种可实现反射光定向抑制和增强的Anti-PT对称RS光子晶体结构,本发明所要解决的技术问题是如何实现光波反射的定向抑制或增强。
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