[发明专利]喷嘴清洗设备在审
申请号: | 202111247730.8 | 申请日: | 2021-10-26 |
公开(公告)号: | CN116020815A | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 黄苑;温晓辉;刘长升;陈华慧;刘宏玉 | 申请(专利权)人: | 北京方正印捷数码技术有限公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;B08B13/00;H04N23/50;H04N23/66 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 董建姣;臧建明 |
地址: | 100089 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴 清洗 设备 | ||
1.一种喷嘴清洗设备,其特征在于,包括喷头架、移动台、固定架、摄像装置、电磁波发射器和控制器,其中,
所述喷头架位于所述移动台上,所述喷头架用于安装所述喷头,所述喷头架还用于在所述移动台上滑动,所述喷头上设置有待清洗喷嘴;
所述固定架位于所述移动台的上方,所述摄像装置和所述电磁波发射器设置在所述固定架上,所述摄像装置和所述电磁波发射器朝向所述移动台;
所述控制器用于控制所述摄像装置对待清洗喷嘴进行图像拍摄、控制所述喷头架在所述移动台上移动以及控制所述电磁波发射器发射电磁波清洗所述待清洗喷嘴。
2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述控制器具体用于:
获取所述摄像装置对所述待清洗喷嘴拍摄得到的第一三维图像;
控制所述喷头架在所述移动台上滑动,直至所述待清洗喷嘴位于所述电磁波发射器的正下方时,控制所述电磁波发射器发射电磁波,以对所述待清洗喷嘴进行清洗;
控制所述喷头架在所述移动台上滑动,直至所述待清洗喷嘴位于所述摄像装置的正下方时,控制所述摄像装置对所述待清洗喷嘴拍摄得到的第二三维图像;
根据所述第一三维图像和所述第二三维图像确定清洗结果。
3.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,获取所述摄像装置对所述待清洗喷嘴拍摄得到的第一三维图像,包括:
所述控制器向所述摄像装置发送拍摄指令,以使所述摄像装置根据所述拍摄指令进行图像拍摄得到所述第一三维图像;
所述控制器接收所述摄像装置发送的所述第一三维图像。
4.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,控制所述喷头架在所述移动台上滑动,包括:
所述控制器确定移动指令,所述移动指令包括移动方向和移动距离;
所述控制器向所述喷头架发送所述移动指令,以使所述喷头架根据所述移动指令向所述移动方向移动所述移动距离。
5.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,控制所述电磁波发射器发射电磁波,以对所述待清洗喷嘴进行清洗,包括:
所述控制器根据所述第一三维图像确定所述待清洗喷嘴中异物的异物信息,所述异物信息包括所述异物在所述待清洗喷嘴的位置;
所述控制器根据所述异物信息确定发射指令,所述发射指令中包括发射模式、发射时长和发射角度;
所述控制器向所述电磁波发射器发送发射指令,以使所述电磁波发射器在所述发射模式下,根据所述待清洗喷嘴的位置发射所述发射时长的电磁波。
6.根据权利要求5所述的设备,其特征在于,所述控制器根据所述异物信息确定发射指令,包括:
若所述待清洗喷嘴中的异物的吸收波长大于第一阈值,则确定所述发射模式为红外发射模式,所述电磁波发射器在所述红外模式下发射红外线;
若所述待清洗喷嘴中的异物的吸收波长小于或等于所述第一阈值,则确定所述发射模式为紫外发射模式,所述电磁波发射器在所述紫外模式下发射紫外线。
7.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,根据所述第一三维图像和所述第二三维图像确定清洗结果,包括:
所述控制器对比所述第一三维图像和所述第二三维图像,以判断所述待清洗喷嘴中的异物是否清除;
若是,则所述控制器确定所述清洗结果为清洗成功;
若否,则所述控制器确定所述清洗结果为清洗失败。
8.根据权利要求6所述的设备,其特征在于,所述控制器确定所述清洗结果为清洗失败之后,还包括:
所述控制器控制对所述待清洗喷嘴进行再次清洗。
9.根据权利要求1-8任一项所述的设备,其特征在于,所述摄像装置的摄像镜头为放大摄像镜头。
10.根据权利要求1-8任一项所述的设备,其特征在于,所述喷嘴的喷射孔的直径在15微米至30微米之间。
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