[发明专利]一种耐磨干粒抛岩板及其制备方法在审
| 申请号： | 202111248992.6 | 申请日： | 2021-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN114031423A | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 刘一军;张克林;杨元东;覃增成;黄秋立;曹国芹 | 申请（专利权）人： | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/89 | 分类号： | C04B41/89 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;牛彦存 |
| 地址： | 528211 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 耐磨 干粒抛岩板 及其 制备 方法 | ||
1.一种耐磨干粒抛岩板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
在坯体表面施面釉；
在施面釉后的坯体表面喷墨打印图案；
在喷墨打印图案后的坯体表面施隔离釉以避免耐磨粒子影响喷墨打印图案发色；
在施隔离釉后的坯体表面喷墨打印胶水图案并施耐磨粒子而使得耐磨粒子均匀分布在隔离釉表面且保证耐磨粒子之间具有间隔；
在施耐磨粒子后的坯体表面施透明干粒釉；
将施透明干粒釉后的坯体烧成并抛光，耐磨粒子之间的间隔被烧成形成的透明干粒釉层填充以及耐磨粒子的顶部被抛光露出覆盖在其表面的透明干粒釉层且耐磨粒子整体不被拔起，得到所述耐磨干粒抛岩板。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述胶水图案的灰度为40～50%。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，相邻耐磨粒子之间的间距为0.2～0.5mm。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述耐磨粒子的矿物组成为100%的透明氧化铝；所述耐磨粒子的尺寸为0.15～0.3mm，优选为0.15～0.2mm。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述耐磨粒子的施加量为100～200g/m2。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述透明干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：58～64%；Al2O3：10～14%；CaO：9～11%；MgO：1～2%；K2O：4.5～6.5%；Na2O：0.05～0.2%；ZnO：5～7%。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述透明干粒釉的比重为1.50～1.55g/cm3，施加量为1200～1400g/m2。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述隔离釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～60%；Al2O3：10～15%；MgO：1.5～3%；CaO：1～2.5%；BaO：7～12%；ZnO：1.5～5%；K2O：5～6%；Na2O：1～2%。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述隔离釉的比重为1.25～1.30g/cm3，施加量为300～350g/m2。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的制备方法获得的耐磨干粒抛岩板。
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