[发明专利]一种靶场试验基线修正及标校的方法及装置

说明书

本发明提供一种靶场试验基线修正及标校的方法和装置，所述方法包括在控制系统中分别调平发射装置及光电跟踪仪；转动光电跟踪仪转台，瞄准发射装置的发射管调整发射装置架位，直至所述光电跟踪仪的光轴与发射装置的发射管同轴，对数据进行采样；基于采样数据，计算光电跟踪仪相对于发射装置的基线；基于采样数据，计算光电跟踪仪相对于发射装置的零位误差。该方法可以实现计算控制系统光电跟踪仪与发射装置之间的基线数据功能，可以实现控制系统光电跟踪仪与发射装置零位标校功能。能够消除控制系统设备间的安装误差，确保控制系统对移动目标进行精确跟踪，确保控制系统在靶场能够进行精度试验。

技术领域

本发明涉及控制领域，尤其涉及一种靶场试验基线修正及标校的方法及装置。

背景技术

基于控制系统的发射装置和光电跟踪仪的放置灵活性，发射装置与光电跟踪仪之间的安装基线及零位标校需要在现场根据实际情况解决，在现场，靶场试验设备间存在安装基线灵活不确定的问题。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提出了一种靶场试验基线修正及标校的方法及装置，所述方法及装置，用于解决现有技术的现场靶场试验设备间存在安装基线灵活不确定的技术问题。

根据本发明的第一方面，提供一种靶场试验基线修正及标校的方法，所述方法包括以下步骤：

步骤S101：在控制系统中分别调平发射装置及光电跟踪仪；

步骤S102：转动光电跟踪仪转台，瞄准发射装置的发射管，调整发射装置架位，直至所述光电跟踪仪的光轴与发射装置的发射管同轴，对数据进行采样；

步骤S103：基于采样数据，计算光电跟踪仪相对于发射装置的基线；

步骤S104：基于采样数据，计算光电跟踪仪相对于发射装置的零位误差。

根据本发明第二方面，提供一种靶场试验基线修正及标校的装置，所述装置包括：

步骤S101：在控制系统中分别调平发射装置及光电跟踪仪；

步骤S102：转动光电跟踪仪转台，瞄准发射装置的发射管，调整发射装置架位，直至所述光电跟踪仪的光轴与发射装置的发射管同轴，对数据进行采样；

步骤S103：基于采样数据，计算光电跟踪仪相对于发射装置的基线；

步骤S104：基于采样数据，计算光电跟踪仪相对于发射装置的零位误差。

根据本发明第三方面，提供一种靶场试验基线修正及标校的系统，包括：

处理器，用于执行多条指令；

存储器，用于存储多条指令；

其中，所述多条指令，用于由所述存储器存储，并由所述处理器加载并执行如前所述的靶场试验基线修正及标校的方法。

根据本发明第四方面，提供一种计算机可读存储介质，所述存储介质中存储有多条指令；所述多条指令，用于由处理器加载并执行如前所述的靶场试验基线修正及标校的方法。

根据本发明的上述方案，实现计算控制系统光电跟踪仪与发射装置之间的基线数据功能，以及控制系统光电跟踪仪与发射装置零位标校功能。消除控制系统设备间的安装误差，是控制系统对移动目标进行精确跟踪的基本保证。可以实现计算控制系统光电跟踪仪与发射装置之间的基线数据功能，可以实现控制系统光电跟踪仪与发射装置零位标校功能。本发明针对靶场试验设备间安装基线灵活不确定的特性，提出了一种靶场试验基线修正及标校新方法，获取相关数据，计算光电跟踪仪与发射装置的基线精确数据。本发明利用现有的控制系统参试设备，测量相关数据，通过算法，得到光电跟踪仪与发射装置的基线精确数据，消除控制系统设备间的安装误差，确保控制系统对移动目标进行精确跟踪。