[发明专利]基片处理系统和基片处理方法在审
申请号: | 202111254312.1 | 申请日: | 2021-10-27 |
公开(公告)号: | CN114446820A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 绫部刚 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;王昊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 系统 方法 | ||
1.一种基片处理系统,其特征在于,包括:
能够对基片实施同种的处理的多个处理单元;
对多个所述处理单元进行所述基片的输送的输送装置;和
控制多个所述处理单元和所述输送装置的控制部,
所述控制部具有:
救济处理部,其对在发生了异常的异常处理单元中正在处理的滞留基片,在所述异常处理单元中进行救济处理;
输送处理部,其在所述异常处理单元中不能对所述滞留基片进行救济处理的情况下,基于预先设定的输送模式,将所述滞留基片从所述异常处理单元输送到另一所述处理单元;和
再救济处理部,其对被输送到另一所述处理单元的所述滞留基片再次进行救济处理。
2.如权利要求1所述的基片处理系统,其特征在于:
在所述输送模式中,包含与多个所述处理单元全部正常时实施的多个所述基片的输送顺序不同的输送顺序。
3.如权利要求1或2所述的基片处理系统,其特征在于:
所述控制部还具有选择部,所述选择部从输送顺序各自不同的多个所述输送模式中,选择供所述输送处理部实施的一个所述输送模式。
4.如权利要求3所述的基片处理系统,其特征在于:
所述选择部基于在所述异常处理单元中发生的异常的种类,从多个所述输送模式中选择一个所述输送模式。
5.如权利要求4所述的基片处理系统,其特征在于,还包括:
检查装置,其检查处理后的所述基片的处理状态;和
将检查信息、输送模式信息、异常信息和方案信息相关联地存储的存储部,其中,所述检查信息与在所述检查装置中进行了检查的所述滞留基片的处理状态有关,所述输送模式信息与将所述滞留基片输送到另一所述处理单元时的所述输送模式有关,所述异常信息与在所述异常处理单元中发生的异常的种类有关,所述方案信息与所述滞留基片的处理相关的方案有关。
6.如权利要求5所述的基片处理系统,其特征在于:
所述选择部基于存储于所述存储部的所述检查信息、所述输送模式信息、所述异常信息和所述方案信息,从多个所述输送模式中选择一个所述输送模式。
7.如权利要求1~6中任一项所述的基片处理系统,其特征在于:
还包括清洗所述输送装置的清洗装置,
所述输送处理部在由所述输送装置将所述滞留基片从所述异常处理单元刚刚输送到另一所述处理单元后,在所述清洗装置中清洗所述输送装置。
8.一种基片处理方法,其特征在于,包括:
救济工序,其对于在能够对基片实施同种的处理的多个处理单元中、发生了异常的异常处理单元中正在处理的滞留基片,在所述异常处理单元中进行救济处理;
输送工序,其在所述异常处理单元中不能对所述滞留基片进行救济处理的情况下,基于预先设定的输送模式,将所述滞留基片从所述异常处理单元输送到另一所述处理单元;和
再救济工序,其对被输送到另一所述处理单元的所述滞留基片再次进行救济处理。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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