[发明专利]研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法有效
| 申请号： | 202111254736.8 | 申请日： | 2018-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN113913156B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 泷泽利雄 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B1/00;B24B37/02;B24B37/04;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 孟伟青;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 玻璃 制造 方法 以及 磁盘 | ||
1.一种研磨液，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理，该研磨液的特征在于，
在通过激光衍射/散射法对所述氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x%时的粒径设为Dx时，
D5为1μm以下，
D100为3μm以上，
D50为0.8μm～2.4μm，
D95为7μm以下，
所述粒度分布中的频率最大的粒径为Dpeak，Dpeak－D5小于D95－Dpeak，
其中，所述Dx的单位为μm。
2.如权利要求1所述的研磨液，其中，所述D95与D5之差为3μm以上。
3.如权利要求1所述的研磨液，其中，所述D95与D5之差为4μm以上。
4.如权利要求1～3中任一项所述的研磨液，其中，所述氧化铈的粒度分布因用于所述研磨处理而向小粒径方向位移。
5.一种玻璃基板的制造方法，其中，所述制造方法包括下述处理:
使用权利要求1～4中任一项所述的研磨液对所述基板的端面进行研磨的处理。
6.如权利要求5所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃基板为磁盘用玻璃基板。
7.一种玻璃基板的制造方法，其中，所述制造方法包括下述处理：使用权利要求1～4中任一项所述的研磨液对所述基板的主表面进行研磨的处理。
8.如权利要求7所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃基板为磁盘用玻璃基板。
9.一种磁盘的制造方法，其包括下述处理：在利用权利要求6或8所述的玻璃基板的制造方法得到的所述磁盘用玻璃基板的主表面至少形成磁性层。
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