[发明专利]研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法

说明书

本发明涉及研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。

本申请是分案申请，其原申请的中国国家申请号为201880060448.9，申请日为2018年10月31日，发明名称为“研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法”。

技术领域

本发明涉及研磨液、使用了该研磨液的玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理。

背景技术

目前，在个人计算机、DVD(Digital Versatile Disc，数字多功能光盘)记录装置等中内置有用于数据记录的硬盘装置(HDD：Hard Disk Drive，硬盘驱动器)。

在硬盘装置中，使用在基板设有磁性层的磁盘，利用在磁盘的面上略微悬浮的磁头在磁性层记录或读取磁记录信息。在近年的硬盘装置中，为了增大存储容量，谋求磁记录的高密度化。为了实现该磁密度的高密度化，要求尽可能减小作为磁盘的基板使用的玻璃基板的主表面的表面凹凸。另外，与之相伴，为了不使在端面的表面凹凸的微小间隙中附着的微粒飞散、转移到玻璃基板的主表面，还要求尽可能减小玻璃基板的内外周端面的表面凹凸。

另外，在进行玻璃基板的研磨处理的情况下，有时使用氧化铈作为游离磨粒。氧化铈例如作为游离磨粒被用在玻璃基板的主表面的研磨的一个处理中，另外，被用在玻璃基板的内外周端面的研磨处理中。

例如，在制造磁盘用玻璃基板时，对玻璃原料的内外周端面进行了倒角加工后，使用包含氧化铈作为游离磨粒的研磨液和刷，通过毛刷研磨进行内外周端面的镜面加工(例如专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-20377号公报

发明内容

发明所要解决的课题

若这样的氧化铈被用作研磨液中的游离磨粒，即便在相同的研磨处理条件下进行研磨处理，也会产生研磨速率降低的情况。这种情况下，需要根据研磨速率的变化来变更研磨处理的条件。另外，存在必须提高将含有氧化铈的研磨液更换成新研磨液的频率这样的生产效率的问题。另外，由于氧化铈比较昂贵，因此若更换频率提高，则还会导致生产成本增加。

因此，本发明的目的在于提供一种研磨液、使用了该研磨液的玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，其中，在使用包含氧化铈作为游离磨粒的研磨液进行玻璃基板的研磨处理时，该研磨液即便反复用于研磨处理，研磨速率的变化也小，能够长时间反复用于研磨处理。

用于解决课题的手段

本发明的一个方式为一种研磨液，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理。

在通过激光衍射/散射法对上述氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，

D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。

上述D95与D5之差优选为4μm以上。

上述D95优选为7μm以下。

优选用于使用刷对玻璃基板的端面进行研磨的研磨处理。

本发明的另一方式为一种玻璃基板的制造方法，其包括对基板的表面进行研磨的处理。该制造方法中的上述研磨是使用上述研磨液对上述玻璃基板进行研磨的处理。

上述玻璃基板优选为磁盘用玻璃基板。