[发明专利]一种水下自动调平平台及其调平方法

权利要求书

1.一种水下自动调平平台，其特征在于，包括挡水外壳以及位于挡水外壳内的水平气泡、基板、圆形导轨、配重块、滑块、十字支撑轴组和调节钟摆，所述挡水外壳为顶端敞口的箱体；

所述十字支撑轴组包括环形支架，所述环形支架的底部两端与所述挡水外壳之间通过呈直线型分布的两组第一转轴转动连接，所述环形底架的顶部两端与所述基板通过呈直线型分布的两组第二转轴转动连接，且第一转轴与第二转轴所在直线呈十字形分布，所述基板位于所述环形支架上方，其上还固定有一圆形导轨，所述圆形导轨上滑动连接有一滑块，所述滑块上安装有配重块，所述圆形导轨的外侧设有安装在基板上的水平气泡，其内侧设有用于安装在基板上待测量使用的传感器，且所述基板的下方还连接有一调节钟摆，通过调整所述滑块在圆形导轨上的位置，来使水平气泡居中以及基板保持水平，且在定位基板水平后，所述滑块固定连接在所述圆形导轨上。

2.根据权利要求1所述的一种水下自动调平平台，其特征在于，所述调节钟摆包括连接在基板底侧的连接杆以及固定在连接杆底端的摆钟壳体，所述摆钟壳体内灌装有细沙。

3.根据权利要求2所述的一种水下自动调平平台，其特征在于，所述摆钟壳体的周边设有多组翼片。

4.根据权利要求3所述的一种水下自动调平平台，其特征在于，所述翼片设有四组，且均匀分布固定在摆钟壳体的周边。

5.根据权利要求4所述的一种水下自动调平平台，其特征在于，所述摆钟壳体的底端设有用于封堵在摆钟壳体上的沙漏堵头。

6.根据权利要求1所述的一种水下自动调平平台，其特征在于，所述滑块与圆形导轨之间通过螺栓定位固定。

7.根据权利要求1所述的一种水下自动调平平台，其特征在于，所述挡水外壳的底部设有用于插入淤泥中使用的四组呈矩形分布的尖角。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的一种水下自动调平平台，其特征在于，所述基板及其上的传感器质量重心到第一转轴或第二转轴的距离为调节钟摆质量重心到对应第一转轴或第二转轴距离的1/20。

9.一种用于权利要求8所述的一种水下自动调平平台的调平方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、将水下测量传感器安装在基板上，并将挡水外壳放置于水平硬地面上；

S2、调节配重块及滑块的的位置，直至水平气泡显示居中后，将滑块固定；

S3、将居中后的调平平台放置在水底，当传感器受到短暂性水流冲击时可保持角度不变，当传感器受到持续水流冲击时，相应的受力计算公式如下：

F1＝ρ*S*V^2*cosα

F2＝G*sinα

其中，F1为水流对传感器的冲击力，F2为调节钟摆自身重力克服冲击力时的阻力，G为调节钟摆的重力，ρ为水的密度，S为传感器垂直流向的截面积，V为水的流速，α为传感器偏转角度，平衡关系为F1*L1＝F2*L2，其中L1为传感器及基板质量总和重心到第一转轴或第二转轴距离，L2为调节钟摆质量重心到对应的第一转轴或第二转轴距离。