[发明专利]异常制品数据分析方法及系统在审

专利信息
申请号: 202111273125.8 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN113935652A 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 林聪;徐莹;周维 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G06Q10/06 分类号: G06Q10/06;G06Q10/10;G06Q50/04
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 周耀君
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 异常 制品 数据 分析 方法 系统
【说明书】:

发明提供的异常制品数据分析方法及系统中,可以根据不同的定义规则把各定义下对应批次的批次号、片号等生产数据信息输入或导入到系统中并记录保存,选择所需对比的参数,包括良率数据、在线量测数据和电性数据等,便可自动输出数据对比的表格及图表,便于后续对异常批次的追踪及计算赔片损失。此外,相较于现有技术上,本发明的系统可以代替人力,处理循环数据,并可实现关键项目自动更新、自动比较,输出数据对比图表,为数据分析及汇总带来极大的便利,并极大的减少了数据分析中存在的人为因素误判。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种异常制品数据分析方法及系统。

背景技术

对于半导体生产制造企业来说,相关的生产数据属于第一手资料,因为只有了解半导体生产工艺线以及后续的成品晶圆(包括正常晶圆和异常晶圆)的相关生产数据,才能准确控制半导体产品产量。特别的,对于异常制品,现有技术通常是需要针对不同异常内容进行分组,然后针对分组数据进行数据分析及追溯,但是此种方式流程复杂,而且容易重复工作,耗费较大的人力和时间,并且在生产数据分析过程中,可能存在人为因素的分析误差。

发明内容

为解决如上及其他问题,基于本发明的一个方面,本发明提供一种异常制品数据分析方法,其包括:

步骤一:根据不同的定义规则设定不同的异常制品组,每个异常制品组包括若干异常批次,每个异常批次包括若干异常晶圆;

步骤二:设定不同的生产数据,包括所述异常制品组的异常类型、所述异常制品组的中各个异常批次的批次号、工艺站点编号、所述异常晶圆的片号以及对应所述片号的异常晶圆的异常原因;

步骤三:将所述异常制品组需要监控及分析的生产数据划三种类型,包括良率数据、在线量测数据和电性数据,其中,每种生产数据类型包括工艺流程中所有在线量测数据,所有电性测试项目数据和所有良率测试项目数据;

步骤四:通过数据链接的方式将所述异常制品组中的生产数据按照所述步骤三的数据类型显示;

步骤五:根据某正常批次的晶圆得到一基准制品组,获取基准制品组的生产数据的中值和生产数据的标准偏差;计算分析异常制品组的生产数据的中值和生产数据的标准偏差,并与基准制品组相比较。

可选的,所述异常品制品数据分析方法还包括:通过对比图显示所述步骤五中的基准制品组的生产数据和异常制品组的生产数据。

可选的,所述对比图的横轴表示异常晶圆的片号以及正常批次的晶圆的片号,纵轴表示异常制品组的生产数据和基准制品组的生产数据。

可选的,所述异常品数据分析方法还包括:设定一显示界面,用于输入记录所述步骤二中的异常类型、批次号、工艺站点编号、片号以及异常原因。

可选的,所述步骤五中,采用如下方式计算异常制品组的生产数据的中值偏移和生产数据的标准差偏移;

生产数据的中值偏移=(异常制品组的生产数据中值-基准制品组的生产数据的中值)/基准制品组的生产数据的标准偏差;

生产数据的标准偏差偏移=(异常制品组的生产数据的标准偏差-基准制品组的生产数据的标准偏差)/基准制品组的生产数据的标准偏差。

基于本发明的另一个方面,本发明还提供一种异常制品数据分析系统,其包括:

异常定义模块,其用于根据不同的定义规则设定不同的异常制品组,每个异常制品组包括若干异常批次,每个异常批次包括若干异常晶圆;

数据设定模块,其用于设定不同的生产数据,包括所述异常制品组的异常类型、所述异常制品组的中各个异常批次的批次号、工艺站点编号、所述异常晶圆的片号以及对应所述片号的异常晶圆的异常原因;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111273125.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top