[发明专利]一种椭圆纳米棒、发光二极管的制备方法及显示装置

权利要求书

1.一种椭圆纳米棒的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供第一基底；

在所述第一基底的表面形成待图案化层，所待图案化层为单层结构或多层结构；

在所述待图案化层的表面排布至少一个纳米结构，所述纳米结构在平行于待图案化层的一个横截面上的形状为椭圆；

以所述纳米结构为第一掩膜版蚀刻所述待图案化层，以得所述椭圆纳米棒；

所述在所述待图案化层的表面排布至少一个纳米结构包括：

在所述待图案化层上设置二氧化硅溶胶；

在所述二氧化硅溶胶的表面上设置聚合物层；

在所述聚合物层上铺设带有至少一个圆柱形通孔的薄膜；

拉伸所述薄膜，使所述圆柱形通孔变为椭圆形通孔；

挤压所述薄膜，使所述聚合物层中的部分聚合物从所述椭圆形通孔中溢出；

固化从所述椭圆形通孔中溢出的所述部分聚合物；

以所述部分聚合物为初始掩膜版蚀刻所述二氧化硅溶胶，以形成所述纳米结构；

所述拉伸所述薄膜，使所述圆柱形通孔变为椭圆形通孔，包括如下步骤：

固定矩形的一个边角，再利用拉伸机台或者工具将与上述边角斜相对的另外一个边角固定，再朝远离所述矩形中心的方向运动，以使所述圆柱形通孔变为椭圆形通孔；

所述至少一个圆柱形通孔的薄膜的制备，包括如下步骤：

提供第二基底；

在所述第二基底上涂覆感光材料层；

图案化所述感光材料层，以在所述感光材料层上形成多个阵列排布的圆柱形凸起，每两个所述圆柱形凸起之间存在间隙；

在所述圆柱形凸起之间的所述间隙涂覆有机材料层，所述有机材料层的材料包括：环氧树脂、聚亚胺酯、聚酯树脂、聚酰亚胺、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯、对苯二甲酸乙二酯和聚甲基丙烯酸甲酯的至少一种或任意组合；

洗去所述感光材料层形成圆柱形通孔的薄膜。

2.根据权利要求1所述的椭圆纳米棒的制备方法，其特征在于，所述图案化所述感光材料层包括：

提供第二掩膜版，并将所述第二掩膜版置于所述感光材料层的一侧；

提供光源，并利用所述光源透过所述第二掩膜版对所述感光材料层进行曝光；

提供显影液，将曝光后的感光材料层置于所述显影液中，以得多个阵列排布的圆柱形凸起。

3.根据权利要求1所述的椭圆纳米棒的制备方法，其特征在于，所述在所述待图案化层的表面排布至少一个纳米结构包括：

提供第三基底；

在所述第三基底上排布至少一个纳米结构；

改变所述纳米结构的形状，以使所述纳米结构的至少一个截面的形状为椭圆形；

将发生形变后的所述纳米结构从所述第三基底转移至所述待图案化层的表面。

4.根据权利要求3所述的椭圆纳米棒的制备方法，其特征在于，所述改变所述纳米结构的形状包括：

对所述纳米结构施加压力，以使所述纳米结构的形状发生改变；或者

对所述纳米结构加热，以使所述纳米结构的形状发生改变；或者

对所述纳米结构施加压力并加热，以使所述纳米结构的形状发生改变。

5.一种发光二极管的制备方法，其特征在于，包括：

提供衬底；

在所述衬底的表面形成待图案化层；

在所述待图案化层的表面排布至少一个纳米结构，所述纳米结构的至少一个截面的形状为椭圆形；

以所述纳米结构为第一掩膜版蚀刻所述待图案化层；

其中，所述待图案化层的处理流程如权利要求1-4中任意一项所述。

6.一种显示装置，其特征在于，包括：

发光二极管，所述发光二极管由权利要求5所述的发光二极管的制备方法制得；

偏振片，所述偏振片设置于所述发光二极管的出光侧；

液晶层，所述液晶层设置于所述发光二极管与所述偏振片之间。