[发明专利]非晶合金薄带的制造方法在审
| 申请号： | 202111284625.1 | 申请日： | 2021-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN114574667A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 板垣肇;野口敦弘;黑木守文;佐佐木淳 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C21D1/09 | 分类号： | C21D1/09;C21D9/52 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;陈彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 合金 制造 方法 | ||
1.一种非晶合金薄带的制造方法，
其为一边使非晶合金薄带行进一边对所述非晶合金薄带照射激光，在所述非晶合金薄带中形成激光照射痕的非晶合金薄带的制造方法，
所述激光照射痕是朝向所述非晶合金薄带的宽度方向形成的线状痕迹，所述线状痕迹在所述非晶合金薄带的长度方向上隔开间隔形成多个，
将所述非晶合金薄带的行进速度设为S1m/sec、所述激光的扫描速度设为S2m/sec时，所述S1为0.1m/sec以上30m/sec以下，所述S2为1m/sec以上800m/sec以下，S2/S1为3.0以上。
2.根据权利要求1所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
所述激光的扫描方向与和所述非晶合金薄带的行进方向正交的方向的角度差为30度以下。
3.根据权利要求1或2所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
从输出所述激光的透镜至所述非晶合金薄带表面的距离为200mm～1200mm。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的非晶合金薄带的制造方法，所述激光为通过连续波发射方式产生的激光。
5.根据权利要求4所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
所述通过连续波发射方式产生的激光的激光密度为5J/m以上35J/m以下。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
所述激光为脉冲激光。
7.根据权利要求6所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
所述脉冲激光的激光输出为0.4mJ～2.5mJ。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
所述非晶合金薄带宽度为30mm～300mm、厚度为18μm～35μm。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
所述线状痕迹在所述非晶合金薄带长度方向上的间隔为2mm～200mm。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
在对所述非晶合金薄带照射激光的位置的前后，具备抑制所述非晶合金薄带的振动的机构。
11.根据权利要求10所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
抑制所述非晶合金薄带的振动的机构是使用多个辊筒调整所述非晶合金薄带的行进位置的机构。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的非晶合金薄带的制造方法，其中，
一边使从非晶合金薄带保持卷轴放卷的所述非晶合金薄带行进，一边对所述非晶合金薄带照射激光。
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