[发明专利]一种有机物清洁及残留检测装置及方法

权利要求书

1.一种有机物清洁及残留检测装置，包括密闭腔体（1）以及控制模块，其特征在于：所述密闭腔体（1）内可容纳至少一个坩埚（100）或掩模板（200）；

所述密闭腔体（1）内设有紫外光灯（2）以及漫反射板（3），所述密闭腔体（1）内通入气体，且密闭腔体（1）上连接有用于通入气体的进气端（4）且连接有用于排出气体的出气端（5），所述进气端（4）位于密闭腔体（1）的上部，且进气端（4）上设有检测进气的水分含量的水百分比传感器Ⅰ（41）以及管路控制阀Ⅰ（42），所述出气端（5）位于密闭腔体（1）的下部，且出气端（5）上设有检测腔体出气的水分含量的水百分比传感器Ⅱ（51）以及管路控制阀Ⅱ（52）。

2.根据权利要求1所述的一种有机物清洁及残留检测装置，其特征在于：所述密闭腔体（1）内的紫外光灯（2）至少设有一颗，且密闭腔体（1）内的漫反射板（3）至少设有一个，所述紫外光灯（2）的紫外光灯照度可调节，且紫外光灯（2）选用波长为254nm或者185nm的紫外线杀菌灯，所述漫反射板（3）的位置可调。

3.根据权利要求1所述的一种有机物清洁及残留检测装置，其特征在于：所述密闭腔体（1）内通入的气体为干燥空气或氮气，所述进气端（4）上的水百分比传感器Ⅰ（41）以及出气端（5）上的水百分比传感器Ⅱ（51）为CO2气体传感器或NO气体传感器。

4.根据权利要求1所述的一种有机物清洁及残留检测装置，其特征在于：所述密闭腔体（1）内通入的气体流向为从密闭腔体（1）上端进气且从密闭腔体（1）下端排气。

5.根据权利要求1所述的一种有机物清洁及残留检测装置，其特征在于：所述控制模块用于水百分比传感器Ⅰ（41）以及水百分比传感器Ⅱ（51）的数据及分析计算，且控制模块用于控制紫外光灯（2）的照度。

6.一种权利要求1-5任意一项所述的有机物清洁及残留检测装置的检测方法，其特征在于：包括如下内容：

S1、物体即坩埚（100）或掩模板（200）进入密闭腔体（1）后，将腔体密闭，通入气体，将紫外光灯（2）开启，开始阶段进气端（4）上的水百分比传感器Ⅰ（41）及出气端（5）上的水百分比传感器Ⅱ（51）不工作，待气体通入时间达到预设定时间后，进气端（4）上的水百分比传感器Ⅰ（41）及出气端（5）上的水百分比传感器Ⅱ（51）开始工作，检测进气及排气中水百分比值，控制模块接收传感器数值并计算，数据处理方式为：

差值=出气端水百分比-进气端水百分比；

S2、设定一阈值，表明有机物残留量，结果判断方式为：

差值＜阈值，则表明物料清洁；

差值＞阈值，则表明物料洁净度不佳，有机物残留超出规格。

7.根据权利要求6所述的一种有机物清洁及残留检测装置的检测方法，其特征在于：所述步骤S1中密闭腔体（1）内通入的气体的水分、二氧化碳的百分比含量稳定且为固定值时，只需在出气端（5）上设置水百分比传感器Ⅱ（51），控制模块数据处理为：差值=出气端水百分比-固定值。