[发明专利]一种有机物清洁及残留检测装置及方法

说明书

本发明公开了一种有机物清洁及残留检测装置及方法，包括密闭腔体以及控制模块，在密闭腔体内放置坩埚或掩模板，在密闭腔体内设置紫外光灯以及漫反射板，且密闭腔体上连接有用于通入气体的进气端且连接有用于排出气体的出气端，在进气端以及出气端均设置检测进气的水分含量的水百分比传感器以及管路控制阀，向着密闭腔体内通入干燥空气或氮气，配合紫外光灯的照射以及漫反射板辅助紫外光覆盖，利用紫外光灯光照射在工件表面，有机物受紫外光照射C‑H键破坏后裂解成H₂O、CO₂、NO等气体产物，紫外清洁的原理能够有效的实现有机物的清洁，对工件进行杀菌清洁，密闭腔体供坩埚或者掩模板的长期存放，避免环境颗粒杂质的污染，有利于提升蒸镀良率。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种有机物清洁及残留检测装置及方法。

背景技术

在有机发光二极管显示器（Organic Light-Emitting Diode，简称OLED）等生产制作过程中，需要利用蒸镀工艺将有机发光材料蒸镀到基板上，其中，坩埚以及掩模板（MASK）会直接参与有机材料的工艺流程。在蒸镀使用后，需进行去有机物的清洗才能再使用，为了确保坩埚或掩模板可以被再次使用，需要进行检测，以便确定是否存在有机材料的残留。

现有有机物残留检测，通常是由人工手持紫外光灯（UV）直接照射物体，然后肉眼根据有无荧光反应完成判断，此方法对于操作人员会有眼睛及皮肤暴露在紫外光损伤的危险。另外肉眼判断也存在主观性，难以量化判定，且坩埚或掩模板狭缝中的有机物往往难以被检出，导致判断清洗有机物完成与否，变得十分困难，另外清洗后的坩埚或掩模板的存放也亦被环境中的particle（颗粒）污染，如未被检出就被生产使用将造成产品寿命降低，显示效果变差，良率低下。

为此，我们提出通过设置紫外光（可调节功率或照度）实现对坩埚或掩模板进一步的清洁，利用检测有机物裂解产物含量以替代人工检测的方式量化判断坩埚或掩模板的洁净程度；同时设计的装置可供坩埚或掩模板的长期存放，可避免particle的二次污染的有机物清洁及残留检测装置及方法来解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够进一步清洁坩埚或掩模板残留有机物，同时可以避免人工检测方式，可以供坩埚或掩模板长期存放，避免环境particle污染，有利于提升蒸镀良率的有机物清洁及残留检测装置及方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种有机物清洁及残留检测装置，包括密闭腔体以及控制模块，所述密闭腔体内可容纳至少一个坩埚或掩模板；

所述密闭腔体内设有紫外光灯以及漫反射板，所述密闭腔体内通入气体，且密闭腔体上连接有用于通入气体的进气端且连接有用于排出气体的出气端，所述进气端位于密闭腔体的上部，且进气端上设有检测进气的水分含量的水百分比传感器Ⅰ以及管路控制阀Ⅰ，所述出气端位于密闭腔体的下部，且出气端上设有检测腔体出气的水分含量的水百分比传感器Ⅱ以及管路控制阀Ⅱ。

所述密闭腔体内的紫外光灯至少设有一颗，且密闭腔体内的漫反射板至少设有一个，所述紫外光灯的紫外光灯照度可调节，且紫外光灯选用波长为254nm或者185nm的紫外线杀菌灯，根据如下裂解的原理：

CxHyOzN → H₂O+CO₂+NO+…

由于有机物受紫外光照射C-H键破坏后裂解成H₂O、CO₂、NO等气体产物，能够有效的实现有机物的清洁。

所述漫反射板的位置可调，调节漫反射板的位置，方便紫外光覆盖工件全部位置，方便紫外光照射在工件表面，对工件进行杀菌清洁；

所述密闭腔体内通入的气体为干燥空气或氮气，所述进气端上的水百分比传感器Ⅰ以及出气端上的水百分比传感器Ⅱ为CO₂气体传感器或NO气体传感器。