[发明专利]在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法和光学复合部件

权利要求书

1.一种在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1通过磁控溅射的方式，在柔性基材上沉积碳膜，所述碳膜包含间隔分布的碳颗粒；

S2通过磁控溅射的方式，在所述碳膜上沉积单质膜；

S3对所述碳膜进行氧化，得到碳氧化物气体，并对所述单质膜进行氧化，得到固体氧化物；

S4去除所述碳氧化物气体，制得具有多孔结构的氧化物光学膜。

2.根据权利要求1所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，所述具有多孔结构的氧化物光学膜的层数为多层，呈层叠设置，所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法还包括如下步骤：

再执行一次或多次S1-S2-S3-S4的步骤的组合，以依次将各层所述具有多孔结构的氧化物光学膜镀在所述柔性基材上；

其中，在不同次的S1-S2-S3-S4的步骤的组合中，每一次沉积的所述碳膜相对于所述柔性基材的位置不同，每一次沉积的所述单质膜的种类相互独立。

3.根据权利要求2所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，至少有1层所述氧化物光学膜中包含的氧化物与另一层所述氧化物光学膜中包含的氧化物不同；和/或

至少有1层所述氧化物光学膜中包含的氧化物为金属氧化物。

4.根据权利要求1至3任一项所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，沿所述氧化物光学膜的厚度方向，每一次制得的所述碳膜的厚度分别独立为X nm，0＜X≤3；和/或

每一次制得的所述单质膜的厚度分别独立为Y nm，0＜Y≤3。

5.根据权利要求1至3任一项所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，所述氧化物光学膜的总孔隙率为1％～20％。

6.根据权利要求1至3任一项所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，所述柔性基材的材质为聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯和聚对苯二甲酸乙二醇酯中的至少一种；和/或

每一层所述单质膜中的单质分别独立地选自铌、钛、硅、硒、铪、锆、铝、铟和钽中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，每一层所述光学膜中包含的氧化物分别独立地选自五氧化二铌、二氧化钛、二氧化硅、二氧化硒、二氧化铪、二氧化锆、三氧化二铝、氧化铟和五氧化二钽中的至少一种。

8.根据权利要求1至3任一项所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，在所述柔性基材上沉积所述碳膜之前，还包括采用磁控溅射在所述柔性基材上沉积氧化物辅助薄膜的操作。

9.根据权利要求8所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法，其特征在于，所述氧化物辅助薄膜中的氧化物选自铌的氧化物、钛的氧化物、硅的氧化物、硒的氧化物、铪的氧化物、锆的氧化物、铝的氧化物、铟的氧化物和钽的氧化物中的至少一种；和/或

所述氧化物辅助薄膜中的氧化物和第一层所述氧化物光学膜中包含的氧化物的种类相同。

10.一种光学复合部件，包括层叠设置的柔性基材和氧化物光学膜，其特征在于，其是根据权利要求1至9任一项所述的在柔性基材上镀氧化物光学膜的方法制得的。