[发明专利]一种特布他林衍生物D及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202111304082.5 申请日: 2021-11-05
公开(公告)号: CN114539100A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 李海龙;陈永;刘芳洁;陈蓉 申请(专利权)人: 嘉实(湖南)医药科技有限公司
主分类号: C07C271/44 分类号: C07C271/44;C07C269/06;C07C215/52
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410217 湖南省长沙市*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 衍生物 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种特布他林衍生物D,其特征在于,所述衍生物D的结构式如(Ⅰ)所示:

2.根据权利要求1所述的特布他林衍生物D,其特征在于,所述衍生物D可作为班布特罗杂质用于质量研究。

3.一种特布他林衍生物D的合成方法,其特征在于,所述衍生物D是以3,5-二甲氧基苯乙酸和叔丁胺为原料,通过缩合、还原、脱保护基和取代反应得到。

4.一种合成特布他林衍生物D的方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)3,5-二甲氧基苯乙酸和叔丁胺在缩合剂的作用下得到N-(叔丁基)-2-(3,5-二甲氧基苯基)乙酰胺,即中间体1;

(2)所述中间体1在还原剂作用下得到N-(3,5-二甲氧基苯乙基)-2-甲基丙烷-2-胺,即中间体2;

(3)所述中间体2在路易斯酸作用下脱去甲基保护基,再与盐酸成盐,得到5-[2-(叔丁基氨基)乙基]苯-1,3-二醇,即中间体3;

(4)所述中间体3采用氨基保护基进行保护,然后在DMAP的催化下与N,N-二甲氨基甲酰氯发生酯化反应,再脱去氨基保护基,得到特布他林衍生物D。

5.一种合成特布他林衍生物D的方法,其特征在于,具体包括以下反应步骤:

(1)将3,5-二甲氧基苯乙酸、叔丁胺、缩合剂和溶剂加入到反应瓶中,在室温下反应,直至反应完全。所述反应液中加入提取溶剂,得到有机相,所述有机相用水洗至中性,然后减压浓缩得到中间体1;

(2)将所述中间体1用四氢呋喃溶解,降至0℃,滴加硼烷的四氢呋喃溶液,待反应完毕后将反应液倒入水中,加入提取溶剂,得到有机相,所述有机相用水洗至中性,然后减压浓缩得到中间体2;

(3)将所述中间体2和溶剂加入到反应瓶中,降至0℃,加入路易斯酸,直至反应完全。将反应液倒入水中,加入提取溶剂,得到有机层和水层。弃去所述有机层,将所述水层用氢氧化钠水溶液调节pH为碱性,加入提取溶剂,得到有机层,将所述有机层减压浓缩得到中间体3。

(4)将所述中间体3和溶剂加入到反应瓶中,加入碱和(Boc)2O反应,反应完成后分液萃取,合并有机相,固液分离,纯化,得到中间体4;

(5)将所述中间体4和溶剂加入到反应瓶中,加入催化量的DMAP和过量的有机碱,搅拌得到反应液A,将所述反应液A缓慢加入得到N,N-二甲氨基甲酰氯中,然后升温反应,待反应完成后萃取干燥,得到中间体5;

(6)将中间体5溶解在溶剂中,加入盐酸低温反应,反应完成后通过分液萃取、纯化得到特布他林衍生物D;

6.如权利要求4或5任意一项所述合成特布他林杂质D的方法,其特征在于,所述缩合剂为EDCI和HOBT组合物。

7.如权利要求4或5任意一项所述合成特布他林杂质D的方法,其特征在于,所述路易斯酸为三溴化硼和/或三氯化铝。

8.如权利要求5所述合成特布他林衍生物D的方法,其特征在于,所述步骤(3)中调节pH至7.5~8.5。

9.一种合成特布他林衍生物D的方法,其特征在于,合成路线如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉实(湖南)医药科技有限公司,未经嘉实(湖南)医药科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111304082.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top