[发明专利]一种提拉法生长氧化镓晶体的双腔结构与方法有效

专利信息
申请号: 202111306205.9 申请日: 2021-11-05
公开(公告)号: CN114232070B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 张辉;王嘉斌;夏宁;马可可;刘莹莹;杨德仁 申请(专利权)人: 杭州镓仁半导体有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/16
代理公司: 杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙) 33260 代理人: 姚宇吉
地址: 311202 浙江省杭州市萧山区宁围*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 提拉法 生长 氧化 晶体 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种提拉法生长氧化镓晶体的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

1)籽晶的安装:将籽晶固定在籽晶杆上,再将籽晶杆安装在末端具有籽晶更换装置的提拉杆上;

2)氧化镓料制备和熔融:将处理后的氧化镓料饼放入加热坩埚内,密闭好主腔体,抽真空至0-3*10-4pa,保压2h以上,通入氩气或二氧化碳至常压,用中频感应加热分段升温将原料完全熔化;

3)漂浮物处理方法:将熔化的氧化镓熔体,在熔融温度以上10-30℃,保持过热1h以上,缓慢降温至熔体表面有小块状漂浮物出现,下入籽晶至漂浮物中部,观察析出晶体的大小,继续降温待析出晶体直径完全包覆漂浮物时,升起籽晶提出熔体界面,提升至第二腔体内,关闭主腔体和第二腔体之间的推拉式挡块装置,向第二腔体内通入冷却用惰性气体,冷却0.5-1h后,利用籽晶更换装置更换新的籽晶杆及生长籽晶,在籽晶冷却期间给熔体重新升温10-30℃,保持熔体过热,保温1h以上;

4)氧化镓晶体生长:缓慢降温至熔融温度以上的2-3℃,将安装好新籽晶的籽晶杆,缓慢下降至熔体上方3~5mm位置烘烤30分钟,开始引晶,控制籽晶转速3rpm,待籽晶表面微熔,缩颈收细至1-2mm时,进行放肩,放肩控制提拉速度1-3mm/h,直径接近晶体目标直径后打开程序自动控制,开始等径生长,待晶体生长至目标长度后退出程序自动控制,熔体升温20-30℃,保温30min,将晶体从熔体中提出至主腔体上部,控制以100w/h的速率降温至红外测温温度1200℃后,以500w/h的速率继续冷却至0w,待主腔体温度完全降至室温时,打开腔门取出晶体;

所述提拉法生长氧化镓晶体方法使用的双腔结构,包括主腔体、第二腔体、加热线圈、保温材料组件以及提拉旋转装置,所述第二腔体设置于主腔体的顶端并与主腔体相通,所述主腔体中心处设有坩埚托与加热坩埚,所述坩埚托下方设有坩埚升降装置;其中,所述第二腔体与主腔体之间设有推拉式挡块装置,用于将第二腔体与主腔体隔绝;所述提拉旋转装置上设有籽晶更换装置,所述籽晶更换装置包括快插装置与连接装置,所述快插装置上端与提拉旋转装置的提拉杆固定,下端设有与连接装置相配的凹槽,所述连接装置的下端设有用于籽晶固定的连接孔,所述连接装置的截面为椭圆形,快插装置与连接装置的外部还设有长螺母。

2.根据权利要求1所述的一种提拉法生长氧化镓晶体的方法,其特征在于,所述提拉旋转装置与所述坩埚升降装置处于同一中心线上。

3.根据权利要求1所述的一种提拉法生长氧化镓晶体的方法,其特征在于,所述第二腔体上还设有红外测径装置与观察口。

4.根据权利要求1所述的一种提拉法生长氧化镓晶体的方法,其特征在于,所述主腔体上设有主观察窗,所述保温材料组件包括包裹加热坩埚的第一保温层与保温罩。

5.根据权利要求1所述的一种提拉法生长氧化镓晶体的方法,其特征在于,步骤2)中,氧化镓料饼的处理方法为将5N或6N级的氧化镓粉料,真空除水后,用液压或等静压的方式压制成料饼,在烧结炉内1300-1600℃烧结成块。

6.根据权利要求1所述的一种提拉法生长氧化镓晶体的方法,其特征在于,步骤4)中,等径生长的提拉速度控制在1-2mm/h,转速控制在3-15rpm。

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