[发明专利]一种基于光源添加辅助图形的方法和装置

权利要求书

1.一种基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，包括：

获取基准光源的光源信息和与所述基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；

当光刻光源的光源信息不同于所述基准光源的光源信息时，基于所述光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及

根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至所述版图中。

2.根据权利要求1所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，所述光刻光源的光源信息包括光源的形状分布、光源的sigma、光源的强度分布、光源的数值孔径和光源的偏振方向。

3.根据权利要求2所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，所述辅助图形是亚分辨率辅助图形，其中，基于所述光刻光源修改所述亚分辨率辅助图形进一步包括：

根据基于所述光刻光源的形状分布修改所述亚分辨率辅助图形的分布和对称性；

根据所述光刻光源的sigma变化对所述辅助图形添加规则赋于修改权重或倍率；

根据所述光刻光源的强度分布对不同特征图形的辅助图形添加规则进行修改；

根据所述光刻光源的数值孔径对所述辅助图形添加规则进行倍率修改；以及

根据所述光刻光源的偏振方向对不同方向的辅助图形添加规则进行修改。

4.根据权利要求2所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，所述修改后的辅助图形添加规则与所述光刻光源的sigma或数值孔径呈现反相关，其中，

当所述光刻光源的sigma增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低；或者

当所述光刻光源的数值孔径增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低。

5.根据权利要求3所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，所述修改后的辅助图形添加规则存储于修改的辅助图形添加规则列表中，所述修改后的辅助图形添加规则包括待添加的亚分辨率辅助图形的几何信息、添加位置信息以及适用条件信息；其中，

所述几何信息包括所述待添加的亚分辨率辅助图形的线条长度、宽度以及方位；

所述位置信息包括所述待添加的亚分辨率辅助图形与目标图形之间的相对距离；

所述适用条件包括所述修改后的辅助图形添加规则使用的场景。

6.根据权利要求2所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则进一步包括：

基于所述版图中的目标图形的几何特征，从所述修改后的辅助图形添加规则列表中选取修改后的辅助图形添加规则，其中，所述目标图形的几何特征包括：目标图形的长度、宽度和方位，以及水平方向、竖直方向、斜对角方向上与其余目标图形的相对位置。

7.根据权利要求6所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，基于所述版图中的目标图形的几何特征，从所述修改后的辅助图形添加规则列表中选取修改后的辅助图形添加规则进一步包括：

步骤1，确定所述目标图形的核心结构及其尺寸；

步骤2，对所述目标图形按照所述尺寸、周期、周围图形特征进行分类，其中，所述分类的目标图形包括一维线条图形和二维结构；

步骤3，对所述一维线条图形按照步骤1限定的条件，在与线条平行的方向选择所述修改后的辅助图形添加规则作为所述用于版图的辅助图形添加规则；

步骤4，对二维结构，结合步骤1限定的条件，在与线条平行方向、垂直方向、斜对角方向选择所述修改后的辅助图形添加规则作为所述用于版图的辅助图形添加规则。