[发明专利]一种基于光源添加辅助图形的方法和装置

说明书

本发明涉及一种基于光源添加辅助图形的方法和装置，属于半导体技术领域，解决了现有基于规则的亚分辨率辅助图形无法适应光源因素的改变而导致的辅助图形添加不合理问题。该方法包括：获取基准光源的光源信息和与基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；当光刻光源的光源信息不同于基准光源的光源信息时，基于光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至版图中。降低了亚分辨率辅助图形添加的复杂性。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种基于光源添加辅助图形的方法和装置。

背景技术

亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution Assist Feature，SRAF)作为一种分辨率增强技术，在90nm节点引进以来已经被广泛应用在大规模量产中。亚分辨率辅助图形，即在目标图形周围添加一系列低于光刻分辨率的细小的图形，这些图形并不会被转移到光刻胶上，只起到增强目标图形成像效果的作用。通过添加亚分辨率辅助图形，可以有效增加目标图形的成像光强对比度。尤其对于分布稀疏的图形，通过添加亚分辨率辅助图形，使得这类稀疏的图形在几何分布上和密集图形拥有相同的图形密度，从而提高整体版图的工艺窗口。

在实际工程应用中，通常使用基于规则的方法添加亚分辨率辅助图形。规则主要来源于基于模型的方法以及工程师的经验。对于新的版图，在将规则应用到版图的过程中，需要从规则中选取合适的应用条件，才能使所添加的亚分辨率辅助图形起到作用。因此，规则的选取成了亚分辨率辅助图形添加是否准确的关键。对于相同的版图，例如线宽和周期相同的版图，往往会选择相同的规则。然而，决定工艺窗口的因素不仅仅来自于版图，同样来自于光源。

发明内容

鉴于上述的分析，本发明实施例旨在提供一种基于光源添加辅助图形的方法和装置，用以解决现有基于规则的亚分辨率辅助图形无法适应光源因素的改变而导致的辅助图形添加不合理的问题。

一方面，本发明实施例提供了一种基于光源添加辅助图形的方法，包括：获取基准光源的光源信息和与所述基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；当光刻光源的光源信息不同于所述基准光源的光源信息时，基于所述光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至所述版图中。

上述技术方案的有益效果如下：本申请的实施例在向更先进节点研发时随着光源变化和核心图形尺寸变化而重新探索，即修改亚分辨率辅助图形添加规则，以能够省略辅助图形添加规则与光刻光源的光源信息多次匹配的工艺步骤，降低了亚分辨率辅助图形添加的复杂性，节省了计算资源和时间成本。通过生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表，能够降低亚分辨率辅助图形添加复杂度和降低仿真需求的成本。

基于上述方法的进一步改进，所述光刻光源的光源信息包括光源的形状分布、光源的sigma、光源的强度分布、光源的数值孔径和光源的偏振方向。

基于上述方法的进一步改进，所述辅助图形是亚分辨率辅助图形，其中，基于所述光刻光源修改所述亚分辨率辅助图形进一步包括：根据基于所述光刻光源的形状分布修改所述亚分辨率辅助图形的分布和对称性；根据所述光刻光源的sigma变化对所述辅助图形添加规则赋于修改权重或倍率；根据所述光刻光源的强度分布对不同特征图形的辅助图形添加规则进行修改；根据所述光刻光源的数值孔径对所述辅助图形添加规则进行倍率修改；以及根据所述光刻光源的偏振方向对不同方向的辅助图形添加规则进行修改。

基于上述方法的进一步改进，所述修改后的辅助图形添加规则与所述光刻光源的sigma或数值孔径呈现反相关，其中，当所述光刻光源的sigma增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低；或者当所述光刻光源的数值孔径增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低。