[发明专利]非易失性存储器及其数据擦除方法在审

专利信息
申请号: 202111323249.2 申请日: 2021-11-05
公开(公告)号: CN114067890A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 杨涛;赵冬雪;刘磊;杨远程;张坤;周文犀;夏志良 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: G11C16/14 分类号: G11C16/14;H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11582
代理公司: 北京英思普睿知识产权代理有限公司 16018 代理人: 刘莹;聂国斌
地址: 430000 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 非易失性存储器 及其 数据 擦除 方法
【权利要求书】:

1.一种非易失性存储器的数据擦除方法,其特征在于,所述存储器包括多个存储单元串,每个所述存储单元串包括串接的选择栅晶体管和存储单元,所述方法包括:

向待进行擦除操作的存储单元串施加台阶擦除电压,所述台阶擦除电压具有台阶状上升的电压波形;以及

在所述台阶擦除电压从其中间电平升高至其峰值电平期间,将所述选择栅晶体管的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平,并将预定区域的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平,从而在所述存储单元串中生成栅极感应漏极泄漏电流,

其中,所述预定区域邻近所述选择栅晶体管,并包括至少一个所述存储单元。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

所述选择栅晶体管包括连接位线的顶层选择栅晶体管和连接衬底中阱掺杂区的底层选择栅晶体管;以及

所述预定区域至少包括第一预定区域和第二预定区域,其中所述第一预定区域邻近所述底层栅选择栅晶体管,并包括至少一个所述存储单元,以及所述第二预定区域邻近所述顶层选择栅晶体管,并包括至少一个所述存储单元。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,将所述选择栅晶体管的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平,并将预定区域的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平包括:

在将所述选择栅晶体管的电压从其起始电平升高至其峰值电平期间,将所述存储单元串的预定区域的电压从其起始电平升高至其峰值电平。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述选择栅晶体管的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平,并将预定区域的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平包括:

在将所述选择栅晶体管的电压从其起始电平升高至其峰值电平的同时,将所述存储单元串的预定区域的电压从其起始电平升高至其峰值电平,且所述选择栅晶体管的峰值电平等于所述预定区域的峰值电平。

5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述选择栅晶体管的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平,并将预定区域的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平包括:

在所述选择栅晶体管的电压从其起始电平升高之后,将所述存储单元串的预定区域的电压从其起始电平升高。

6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,

所述存储单元包括真存储单元和伪存储单元,所述第一预定区域邻近所述底层栅选择栅晶体管,并包括至少一个所述伪存储单元。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述伪存储单元包括位于所述底层选择栅晶体管与所述阱掺杂区之间的第一伪存储单元,所述第一预定区域与所述衬底之间间隔至少一个所述第一伪存储单元。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

将用于间隔的至少一个所述第一伪存储单元在所述擦除操作期间设置为浮置状态。

9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

向用于间隔的至少一个所述第一伪存储单元施加所述台阶擦除电压。

10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述存储单元包括真存储单元和伪存储单元,所述伪存储单元包括邻近所述选择栅晶体管的选择层级伪存储单元,所述方法还包括:

在所述台阶擦除电压从其中间电平升高至其峰值电平期间,将所述选择层级伪存储单元的电压从其起始电平升高至其峰值电平。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

在将所述选择栅晶体管的电压从其起始电平升高至其预定峰值电平期间,将所述选择层级伪存储单元的电压从其起始电平升高至其峰值电平。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111323249.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top