[发明专利]一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法及工件在审

专利信息
申请号: 202111323410.6 申请日: 2021-11-08
公开(公告)号: CN113862769A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 刘晗;叶敏恒;叶作彦;余宗洋;郝玉婷;王超;徐平 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
主分类号: C25F3/20 分类号: C25F3/20;C25F7/00;B22F10/28;B22F10/62;B33Y80/00
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 梁田
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 alsi10mg 合金 表面 电解 抛光 方法 工件
【权利要求书】:

1.一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法,其特征在于,包括:

(1)对AlSi10Mg合金样品表面进行除油预处理;

(2)电解抛光,电解抛光液为磷酸溶液,电解抛光体系为三电极体系,电解抛光温度为65~75℃,电解抛光时间为15~20min,电解抛光电位为0~4V;

(3)对抛光后的样品迅速进行水冲洗;

所述AlSi10Mg合金为采用选择性激光熔融技术制备。

2.根据权利要求1所述的一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法,其特征在于,所述除油预处理为采用乙醇对样品表面进行超声脱脂后,将样品进行水洗、吹干;

所述水洗温度为15~20℃,所述吹干温度为10~15℃。

3.根据权利要求1所述的一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法,其特征在于,所述磷酸溶液的质量分数为85%。

4.根据权利要求1所述的一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法,其特征在于,所述电解抛光过程中对电解抛光液进行搅拌,搅拌速度为20~30rpm/min。

5.根据权利要求1所述的一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法,其特征在于,所述电解抛光电位为2~4V。

6.根据权利要求1所述的一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法,其特征在于,所述电解抛光过程中的电化学工作站设置为直流稳压模式。

7.根据权利要求1所述的一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法,其特征在于,所述三体系电极中参比电极为Ag/AgCl,AlSi10Mg合金为阳极,紫铜片为阴极。

8.根据权利要求1所述的一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法,其特征在于,电解抛光后在30s内对抛光后的样品进行水冲洗。

9.一种工件,其特征在于,包括表面经如权利要求1所述的电解抛光方法抛光后的AlSi10Mg合金。

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