[发明专利]一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法及工件

说明书

本发明公开了一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法及工件，包括对AlSi10Mg合金样品表面进行除油预处理；电解抛光，电解抛光液为磷酸溶液，电解抛光体系为三电极体系，电解抛光温度为65～75℃，电解抛光时间为15～20min，电解抛光电位为0～4V；对抛光后的样品迅速进行水冲洗；AlSi10Mg合金为采用选择性激光熔融技术制备。以磷酸为电解抛光液，电解抛光电位采用小电位，大幅度改善选择性激光熔融AlSi10Mg合金的粗糙度及表面形貌，且大大降低了电解抛光过程的材料损耗。配方简单、使用安全，适合于复杂形状零件的加工。

技术领域

本发明涉及合金材料表面性能检测技术领域，具体涉及一种用于AlSi10Mg 合金表面的电解抛光方法及工件。

背景技术

选择性激光熔融是一种金属材料增材制造技术，主要以金属粉末为原料， 通过CAD模型预分层处理，使用高功率激光将金属粉末逐层熔化在一起，并快 速冷却固化，与传统方法相比，选择性激光熔融可以获得成形精度高，结构复 杂的零件。但是由于选择性激光熔融技术对材料要求高，目前应用的金属和合 金并不多，如不锈钢、钛合金以及铝合金等。

由于金属粉末颗粒的飞溅，使得在工件表面形成小的隆起，从而使得通过 选择性激光熔融制成的合金往往具有非常粗糙的表面，严重影响其使用的广泛 性。电解抛光具有工艺简单，操作灵活性强，且无应力影响等特点，被广泛应 用于各类金属及合金的抛光。对于具有Al-Si共晶组织的AlSi10Mg合金由于硅 含量突出，Al/Si电化学性质差异明显，由于硅含量较高，因此电解抛光具有一 定的困难。常规的铝合金抛光方法无法满足表面粗糙度较大、硅含量高的 AlSi10Mg合金，采用电化学抛光对AlSi10Mg合金表面进行精整具有一定的困 难。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是现有的电化学抛光方法无法满足对于表面粗 糙度大、硅含量高的AlSi10Mg合金表面精整的需求，目的在于提供一种用于 AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法及工件，以解决以上问题。

本发明的第一个目的是提供一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法， 通过下述技术方案实现：

一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法，包括：

(1)对AlSi10Mg合金样品表面进行除油预处理；

(2)电解抛光，电解抛光液为磷酸溶液，电解抛光体系为三电极体系，电 解抛光温度为65～75℃，电解抛光时间为15～20min，电解抛光电位为0～4V；

(3)对抛光后的样品迅速进行水冲洗；

所述AlSi10Mg合金为采用选择性激光熔融技术制备。

可选地，所述除油预处理为采用乙醇对样品表面进行超声脱脂后，将样品 进行水洗、吹干；

所述水洗温度为15～20℃，所述吹干温度为10～15℃。

可选地，所述磷酸溶液的质量分数为85％。

可选地，所述电解抛光过程中对电解抛光液进行搅拌，搅拌速度为 20～30rpm/min。

可选地，所述电解抛光电位为2～4V。

可选地，所述电解抛光过程中的电化学工作站设置为直流稳压模式。

可选地，所述三体系电极中参比电极为Ag/AgCl，AlSi10Mg合金为阳极， 紫铜片为阴极。

可选地，电解抛光后在30s内对抛光后的样品进行水冲洗。

本发明的第二个目的是提供一种工件，包含利用上述电解抛光方法处理的AlSi10Mg合金。

本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：