[发明专利]半导体存储器装置和包括半导体存储器装置的存储器系统在审

专利信息
申请号: 202111332942.6 申请日: 2021-11-11
公开(公告)号: CN114724594A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 张寿凤 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11C5/02 分类号: G11C5/02;G11C5/06;G11C8/06
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 黄晓燕;史泉
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 存储器 装置 包括 系统
【说明书】:

公开了半导体存储器装置和包括半导体存储器装置的存储器系统。所述半导体存储器装置包括:第一存储器单元阵列和第二存储器单元阵列,沿第一方向彼此间隔开;多个列选择晶体管,在第一存储器单元阵列与第二存储器单元阵列之间沿与第一方向交叉的第二方向彼此间隔开,所述多个列选择晶体管中的至少两个列选择晶体管包括中心栅极图案的相应部分,中心栅极图案在第一存储器单元阵列的中心处与沿第一方向延伸的中心线交叉并且具有闭合的回路形状;以及第一局部输入/输出线和第二局部输入/输出线,被配置为:基于列选择晶体管的操作将通过第一存储器单元阵列的电位提供给局部感测放大器。

本申请要求于2021年1月6日提交的第10-2021-0001490号韩国专利申请的优先权以及所获得的所有权益,所述韩国专利申请的公开通过引用全部包括于此。

技术领域

本公开涉及半导体存储器装置和包括半导体存储器装置的存储器系统。

背景技术

随着电子工业的最新发展,对高功能性、高速和紧凑尺寸的电子部件和元件的需求已经增加。近来,为了提高半导体存储器装置的集成度,存在减小存储器单元区域的尺寸和靠近存储器单元区域的驱动存储器单元的外围电路的尺寸的趋势。还有增加被处理的数据单元的数量以提高处理数据的速度的趋势。

已经提出了这样的方法:在存储器单元区域中设置不存储数据的虚设单元区域,以增大被处理的数据的单位。然而,由于虚设单元的存在,存储器单元区域的尺寸和外围电路的尺寸会增加。

发明内容

本公开的实施例提供一种半导体存储器装置,所述半导体存储器装置能够通过移除由存储器单元区域中的虚设单元占据的区域而提高存储器单元区域的尺寸效率,同时提高处理数据的单位。

本公开的实施例还提供一种能够在提高处理数据的单位的同时提高外围电路的尺寸效率的半导体存储器装置。

然而,本公开的实施例不限于在此阐述的那些实施例。通过参照下面给出的本公开的具体实施方式,对于本公开所属领域的普通技术人员来说,本公开的以上和其他实施例将变得更加清楚。

根据本公开的一些实施例,提供一种半导体装置,所述半导体装置包括:第一存储器单元阵列和第二存储器单元阵列,沿第一方向彼此间隔开;多个列选择晶体管,沿与第一方向交叉的第二方向彼此间隔开。所述多个列选择晶体管位于第一存储器单元阵列与第二存储器单元阵列之间,并且所述多个列选择晶体管中的至少两个列选择晶体管包括中心栅极图案的相应部分,中心栅极图案在第一存储器单元阵列的中心处与沿第一方向延伸的中心线交叉并且具有闭合的回路形状。所述半导体装置包括:第一局部输入/输出线和第二局部输入/输出线,被配置为:基于所述多个列选择晶体管的操作将通过第一存储器单元阵列的电位提供给局部感测放大器。第一局部输入/输出线和第二局部输入/输出线沿第二方向延伸并且电连接到中心栅极图案。在平面图中,所述中心线与第一局部输入/输出线和第二局部输入/输出线间隔开,并且所述中心线不与第一局部输入/输出线和第二局部输入/输出线交叉。

根据本公开的一些实施例,提供一种半导体存储器装置,所述半导体存储器装置包括:第一存储器单元阵列和第二存储器单元阵列,沿第一方向彼此间隔开;多条位线中的中心位线,中心位线在第一存储器单元阵列上方沿第一方向延伸。中心位线是所述多条位线中最接近于在第一存储器单元阵列的中心处沿第一方向延伸的中心线的位线。所述半导体存储器装置包括:所述多条位线中的第一外位线,使得第一外位线在第一存储器单元阵列上方沿第一方向延伸,并且是所述多条位线中在与第一方向交叉的第二方向上距所述中心线最远的位线;所述多条位线中的第二外位线,使得第二外位线在第一存储器单元阵列上方沿第一方向延伸,并且是所述多条位线中在第二方向上距第一外位线最远的位线;中心列选择晶体管,被配置为控制中心位线与局部感测放大器之间的电位;第一外列选择晶体管,被配置为控制第一外位线与局部感测放大器之间的电位;以及第二外列选择晶体管,被配置为控制第二外位线与局部感测放大器之间的电位。第一外列选择晶体管和第二外列选择晶体管被配置为:在中心列选择晶体管向局部感测放大器提供电位时,向局部感测放大器提供电位。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111332942.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top