[发明专利]应用于蚀刻机的多路输出模块的射频电源控制方法及系统在审

专利信息
申请号: 202111339886.9 申请日: 2021-11-12
公开(公告)号: CN114063479A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 李佳 申请(专利权)人: 华科电子股份有限公司
主分类号: G05B19/04 分类号: G05B19/04;C23F1/08
代理公司: 北京冠和权律师事务所 11399 代理人: 时嘉鸿
地址: 518000 广东省深圳市福田区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 应用于 蚀刻 输出模块 射频 电源 控制 方法 系统
【说明书】:

发明提供了一种应用于蚀刻机的多路输出模块的射频电源控制方法,包括如下步骤:步骤S01:获取蚀刻任务信息,确定射频电源的控制策略;步骤S02:根据所述控制策略,确定射频电源的控制步骤;步骤S03:根据所述控制步骤,分别确定每个步骤的输出参数,并输入预设的多路输出模块;步骤S04:通过所述多路输出模块,控制所述射频电源进行蚀刻;通过对蚀刻任务信息进行分析确定射频电源的控制策略,增强了控制策略的针对性和准确性,通过控制策略确定出射频电源的控制步骤,使得控制步骤的控制效果更加精确,同时提高了控制效率,最后通过多路输出模块提高了射频电源蚀刻效率。

技术领域

本发明涉及蚀刻机技术领域,特别涉及一种应用于蚀刻机的多路输出模块的射频电源控制方法及系统。

背景技术

目前,随着我国现代科技的快速发展,航空、航天、机械、半导体等领域上对蚀刻机的需求逐年递增,中国市场对芯片的需求在世界上都位列前部,并且随着我国电子行业的飞速发展,还有着需求继续扩大的趋势,而芯片制造离不开光刻机、蚀刻机、离子注入机等设备,这些设备的研发突破对我国的芯片制造行业,乃至其他行业的影响都是巨大的,5nm蚀刻机的关键技术,可用于台积电的5nm芯片制造;一直以来受到技术难度的限制和国外的技术封锁,使我国在芯片制造方向一直受阻,不过我国的蚀刻机技术已经逐步突破到了5nm;现有的蚀刻机在进行蚀刻时,通常以多个单路输出进行组合输出,通过对蚀刻机的蚀刻精准度调控来保证蚀刻的工作效率,但缺少应对不同情况下蚀刻进程变化的方案。

发明内容

本发明提供一种应用于蚀刻机的多路输出模块的射频电源控制方法及系统,用以解决蚀刻机不能及时对蚀刻过程进行多路实时控制及时刻过程温度监测的情况。

本发明提供了一种应用于蚀刻机的多路输出模块的射频电源控制方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤S01:获取蚀刻任务信息,确定射频电源的控制策略;

步骤S02:根据所述控制策略,确定射频电源的控制步骤;

步骤S03:根据所述控制步骤,分别确定每个步骤的输出参数,并输入预设的多路输出模块;

步骤S04:通过所述多路输出模块,控制所述射频电源进行蚀刻。

作为本技术方案的一种实施例,在于所述步骤S01包括:

根据蚀刻任务信息,确定蚀刻主体,并根据所述蚀刻主体,确定蚀刻技术:其中,

所述蚀刻技术包括:溶液蚀刻、主体洗涤、干燥判定、修偏处理;

根据蚀刻技术,确定射频电源控制的控制需求,通过所述控制需求和蚀刻技术生成控制策略。

作为本技术方案的一种实施例,在于所述步骤S02包括:

对控制策略进行方案分析,获取控制方案;其中,

所述控制方案包括:溶液蚀刻方案、主体洗涤方案、干燥判定方案、修偏处理方案;

根据控制方案,进行方案步骤规划处理,获取控制步骤;其中,

所述控制步骤包括:溶液蚀刻步骤、主体洗涤步骤、干燥判定步骤、修偏处理步骤。

作为本技术方案的一种实施例,在于所述主体洗涤步骤包括:

对溶液蚀刻信息进行位置信息提取,根据蚀刻目标预设的坐标系,确认洗涤信息,并输出洗涤参数;其中,

所述洗涤信息包括:清洗坐标、清洗坐标对应的清洗强度;

根据所述洗涤信息对溶液蚀刻主体分别进行多次洗涤,获得洗涤主体;其中,

所述两次洗涤包括:喷淋洗涤、喷射洗涤。

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