[发明专利]集成电路版图设计方法、装置及设备

说明书

本申请公开了一种集成电路版图设计方法、装置及设备。该方法包括：获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足DRC校验要求；将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。根据本申请实施例，能够将原始版图数据中的版图元素集合进行替换调整，并且替换后不会产生新的DRC异常，从而提升DRC校验过程中修改调整的效率。

技术领域

本申请属于集成电路设计技术领域，尤其涉及一种集成电路版图设计方法、装置及设备。

背景技术

在集成电路的设计过程中，在设计人员对电路功能进行需求分析并设计出原始版图后，需要对原始版图进行DRC（Design Rule Check，设计规则检查）校验，并根据校验的结果对原始版图数据进行调整。

现有的版图调整方式主要是人工调节，在确定原始版图中存在DRC校验异常时，需要设计人员对存在异常的版图元素进行手动调整，以使调整后的版图符合DRC校验要求。并且，设计人员对于经过DRC校验后未发生异常的部分版图元素，也需要进行调整替换，以替换为另一种结构的版图元素，并且替换后的版图元素同样需要符合DRC校验要求。然而，上述手动调整的方式需要设计人员了解DRC具体的参数及检查要求，因此调整效率较低。

发明内容

本申请实施例提供了一种集成电路版图设计方法、装置及设备，能够解决对版图元素进行手动调整的效率较低的问题。

第一方面，本申请实施例提供一种集成电路版图设计方法，方法包括：

获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；

从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足DRC校验要求；

将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。

在一些实施例中，所述版图元素集合包括正常版图元素集合或异常版图元素集合，所述异常版图元素集合包括未通过DRC校验的版图元素；

所述将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合，包括：

将所述原始版图数据中的所述异常版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。

在一些实施例中，所述集成电路版图设计方法，还包括：

生成预备模型版图元素集合；

对所述预备模型版图元素集合进行DRC校验；

将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至所述模型数据库中。

在一些实施例中，所述生成预备模型版图元素集合，包括：

根据预设模型生成算法生成多个不同的预备模型版图元素集合，和/或，响应于用户触发的绘制输入指令生成对应的预备模型版图元素集合。

在一些实施例中，所述生成预备模型版图元素集合，包括：

响应于用户触发的模型参数设置指令，根据所述模型参数设置指令对应的模型参数生成多个不同的预备模型版图元素集合。

在一些实施例中，所述将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至所述模型数据库中，包括：

将通过DRC校验的预备模型版图元素集合中的每个预备模型版图元素集合转换为对应的文本格式文件；

将所述文本格式文件存储至所述模型数据库中；

所述从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合，包括：