[发明专利]离子作用多功能蒸发溅射源

权利要求书

1.一种离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，包括基座，以及堆叠设置于所述基座上的磁场分布组件、水冷组件、气体供给组件和阴极组件，所述磁场分布组件用于给所述阴极组件提供磁场；所述气体供给组件用于向所述阴极组件内供给反应气体或者惰性气体。

2.根据权利要求1所述的离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，所述气体供给组件包括绝缘分气板和气体引进管，所述绝缘分气板设于所述水冷组件上背离所述磁场分布组件的一侧，所述阴极组件设于所述绝缘分气板上背离所述水冷组件的一侧；

所述气体引进管与所述绝缘分气板连接，用于进气。

3.根据权利要求2所述的离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，所述绝缘分气板上朝向所述阴极组件的一侧设有多个出气口，多个所述出气口阵列排布在所述绝缘分气板上。

4.根据权利要求3所述的离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，所述气体供给组件还包括测温结构，所述测温结构设于所述绝缘分气板上，用于对所述出气口进行测温。

5.根据权利要求2所述的离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，所述绝缘分气板为氧化铝陶瓷绝缘分气板。

6.根据权利要求1所述的离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，所述基座上形成有向上开口的容纳腔，所述磁场分布组件固定在所述容纳腔内，并且所述水冷组件固定在所述容纳腔的开口处，用于闭合所述容纳腔。

7.根据权利要求1所述的离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，所述磁场分布组件包括磁控主体和调整连接杆，所述调整连接杆一端固定在所述基座上，另一端与所述磁控主体连接，并且所述调整连接杆可伸缩，用于调控所述磁控主体的高度。

8.根据权利要求1所述的离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，所述水冷组件包括水冷板、金属密封进水端子和金属密封出水端子，所述水冷板安装在所述基座上，并且所述水冷板内形成有水冷循环通道，所述水冷循环通道的进水端与所述金属密封进水端子连接，所述水冷循环通道的出水端与所述金属密封出水端子连接。

9.根据权利要求1所述的离子作用多功能蒸发溅射源，其特征在于，所述阴极组件包括电源导线，用于固定靶材的阴极板，以及由内向外设置于所述阴极板周围的靶材压环、绝缘环和屏蔽罩；所述靶材压环用于将靶材压在所述气体供给组件上；所述电源导线穿过所述屏蔽罩、所述绝缘环和所述靶材压环与所述阴极板接触。

10.一种成膜装置，其特征在于，包括如权利要求1至9任意一项所述的离子作用多功能蒸发溅射源。