[发明专利]喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置

权利要求书

1.一种喷嘴清洗装置，装备在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将所述涂布液涂布至基板的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗装置的特征在于包括：

附着物去除部，在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑；

移动部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下，使所述附着物去除部沿所述喷出口的延伸设置方向移动；

回收部，在所述附着物去除部的下方，对通过所述移动部所造成的所述喷嘴抵接构件的移动而被去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及

排出部，将由所述回收部所回收的所述涂布液引导并排出至所述涂布装置的外部，

所述回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由所述底部以及所述侧壁所形成的回收区域而使所述涂布液朝向所述排出部流动，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置。

2.根据权利要求1所述的喷嘴清洗装置，其中

所述回收部还具有相对于排液口而开闭自如的开闭构件，所述排液口在所述回收区域中的在铅垂方向上最低而所述涂布液汇集的集聚部位以面向所述排出部的方式开口于所述结构体，

通过利用所述开闭构件来封堵所述排液口，从而在所述回收区域中贮存所述涂布液，另一方面，通过解除所述开闭构件所造成的所述排液口的封堵而敞开所述排液口，从而使所述涂布液流出至所述排出部。

3.根据权利要求2所述的喷嘴清洗装置，其中

所述回收部在所述内底面以自铅垂上方俯视时从下方覆盖所述附着物去除部的方式而配置的状态下，与所述附着物去除部一体地通过所述移动部而沿所述延伸设置方向移动。

4.根据权利要求3所述的喷嘴清洗装置，其中

所述排出部被配置在所述回收部的移动范围的下方，

所述开闭构件在位于所述移动范围中的所述回收部偏离所述排出部的正上方位置的位置的期间封堵所述排液口，当所述回收部位于所述排出部的正上方位置时敞开所述排液口。

5.根据权利要求1所述的喷嘴清洗装置，其中

所述排出部被配置在所述移动部所造成的所述喷嘴抵接构件的移动范围的其中一侧，

所述回收部是如下的导槽构件，即，所述底部沿着所述移动范围而延伸设置，并且所述侧壁从与所述延伸设置方向正交的水平方向上的所述底部的一对边部竖立设置，且剖面具有凹形形状，

所述导槽构件是以所述移动范围的其中一侧的所述内底面的高度位置比所述移动范围的另一侧的高度位置低的方式而倾斜地配置。

6.根据权利要求5所述的喷嘴清洗装置，其中

所述导槽构件被设置成能更换。

7.根据权利要求5或6所述的喷嘴清洗装置，其中

所述附着物去除部具有溜槽，所述溜槽在所述支撑构件的下方承接沿着所述支撑构件而朝下方流来的所述涂布液并使其流落至所述导槽构件。

8.一种喷嘴清洗方法，是在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而涂布所述涂布液的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗方法的特征在于包括：

第一工序，使在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑的附着物去除部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下沿所述喷出口的延伸设置方向移动，从而通过所述喷嘴抵接构件来去除附着于所述喷嘴的下端部的所述涂布液；

第二工序，在所述附着物去除部的下方，对被所述喷嘴抵接构件去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及

第三工序，将所回收的所述涂布液经由排出部而排出至所述涂布装置的外部，

所述第二工序是通过包含具有底部及侧壁的结构体的回收部来回收所述涂布液，并使其沿着由所述底部以及所述侧壁所形成的回收区域而朝向所述排出部流动的工序，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置。

9.一种涂布装置，其特征在于，包括：

涂布部，从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将所述涂布液涂布至基板；以及

如权利要求1至6中任一项所述的喷嘴清洗装置。