[发明专利]清洁基站及清洁系统

权利要求书

1.一种清洁基站，用于维护具有拖擦件的清洁机器人，其特征在于，包括：

基站本体，其设置清洁槽，以供所述清洁机器人的拖擦件至少部分收容于其中或位于其上方；

清洁组件，包括：移动架和能够出风的旋转清洁件，所述移动架传动安装于所述清洁槽处并能够在所述清洁槽内作往复运动，所述旋转清洁件可转动地安装于移动架上，所述移动架至少在面向和背向所述清洁槽槽底的方向镂空，以暴露出所述旋转清洁件；

传动机构，传动连接所述移动架并转动连接所述旋转清洁件，所述传动机构受控驱动所述移动架沿着所述清洁槽作往复运动，同时驱动所述旋转清洁件作旋转运动，使所述旋转清洁件跟随移动架移动而对所述清洁机器人的拖擦件以及所述清洁槽进行清洁和吹风。

2.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述传动机构带动所述移动架沿着所述清洁槽作往复运动的同时，带动所述移动架沿着垂直于所述清洁槽槽底的方向上、下浮动，使所述旋转清洁件交替清洁所述拖擦件和所述清洁槽。

3.如权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述传动机构包括：沿着移动架的移动方向设置的传送带、张紧在传送带两端的张紧轮、沿着传送带移动的活动轮、固定在所述活动轮上的偏心轴以及带动至少一张紧轮转动的动力源，所述移动架与所述偏心轴转动相连，所述偏心轴的固定位置偏离所述活动轮的圆心，当所述动力源带动所述张紧轮旋转时，所述活动轮沿着所述传送带滚动，并带动所述偏心轴旋转而使所述移动架上、下浮动地沿着所述清洁槽往复运动。

4.如权利要求2或3所述的清洁基站，其特征在于，所述移动架弹性的上下浮动。

5.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述移动架与所述清洁槽槽底之间具有间隙；所述清洁槽槽底和/或侧壁于对应所述清洁组件往复运动的两端位置分别设置有过滤件。

6.如权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述旋转清洁件上设置凸出的刮擦件，所述旋转清洁件旋转带动所述刮擦件旋转而挤压周围空气产生吹向所述清洁槽槽底和所述拖擦件的气流。

7.如权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述刮擦件上形成有背向或朝向所述旋转清洁件的旋转方向凹入的兜槽。

8.如权利要求6或7所述的清洁基站，其特征在于，所述旋转清洁件包括滚轴，所述刮擦件为刮片，所述刮片设置在滚轴上，至少一所述刮片整体或局部呈弯折或弯曲态，且在弯折或弯曲位构成兜槽。

9.如权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述滚轴上设置多个刮片，所述刮片呈弧形或V形，所述刮片间隔地分布于所述滚轴表面并相对于所述滚轴的轴向弯曲，且各所述刮片的弯曲或弯折方向一致。

10.如权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述滚轴上设置多个刮片，各刮片沿所述滚轴的轴向延伸，且各所述刮片以所述滚轴为中心外向呈辐射式分布。

11.如权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，所述滚轴上的各刮片呈弧形，所述刮片沿所述滚轴的垂直方向的截面为弧形，且各刮片均朝所述滚轴的同一旋转方向弯曲，所述刮片上的弯曲部位构成所述兜槽。

12.如权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，所述滚轴上的各刮片呈波浪形，所述刮片沿所述滚轴的径向呈波浪状向外延伸，且各所述刮片沿垂直于所述滚轴的轴向的截面呈波浪线形，所述刮片在所述滚轴的径向上形成交替分布的波峰部和波谷部，所述波峰部和所述波谷部分别构成不同凹入方向的所述兜槽。

13.如权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，至少一所述刮片为沿所述滚轴的轴向呈波浪形的褶皱状分布，其在所述滚轴的轴向上形成交替分布的波峰部和波谷部，所述波峰部和所述波谷部分别围成一所述兜槽，所述波峰部和所述波谷部的兜槽分别朝向所述滚轴的相反旋转方向。