[发明专利]一种纹路识别基板、其修复方法及装置在审
申请号: | 202111359828.2 | 申请日: | 2021-11-17 |
公开(公告)号: | CN113989866A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 牛菁 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G06V40/13 | 分类号: | G06V40/13 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 丁睿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纹路 识别 修复 方法 装置 | ||
本发明提供了一种纹路识别基板、其修复方法及装置,其中,该纹路识别基板包括:衬底基板和位于所述衬底基板上呈阵列排布的多个纹路传感单元;各所述纹路传感单元包括光敏采集器、至少一个修复控制器和反偏电压线;所述反偏电压线位于所述光敏采集器背离所述衬底基板的一侧且与所述光敏采集器的一端耦接,所述修复控制器与所述反偏电压线中的一段目标段并联耦接;其中,所述修复控制器用于在所述目标段断开时,耦接所述目标段的相对两端。用于提高纹路识别精度。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种纹路识别基板、其修复方法及装置。
背景技术
现有将光学传感与显示相结合的屏内指纹识别技术,多采用显示背板加非晶硅PIN器件的结构。在诸如晴天室外的强光环境下,作为杂散光的自然光极易导致感光器件饱和,无法区分指纹谷脊的信号差,干扰正常的指纹识别。
可以采用减少感光器件的I层厚度来降低其外量子效率(External QuantumEfficiency,EQE),以此保证感光器件结构在强光照射下不易发生饱和,以达到区分亮暗态的目的。然而,随着I层厚度的减小,薄膜的不均匀性就越加明显,对器件的影响越加严重。如何提高纹路识别精度成为急需解决的技术问题。
发明内容
本发明提供了一种纹路识别基板、其修复方法及装置,用于提高纹路识别精度。
第一方面,本发明实施例提供了一种纹路识别基板,包括:
衬底基板和位于所述衬底基板上呈阵列排布的多个纹路传感单元;
各所述纹路传感单元包括光敏采集器、至少一个修复控制器和反偏电压线;
所述反偏电压线位于所述光敏采集器背离所述衬底基板的一侧且与所述光敏采集器的一端耦接,所述修复控制器与所述反偏电压线中的一段目标段并联耦接;
其中,所述修复控制器用于在所述目标段断开时,耦接所述目标段的相对两端。
在一种可能的实现方式中,所述修复控制器包括修复晶体管,所述修复晶体管的栅极与修复控制端耦接,其第一极与所述目标段的第一端耦接,其第二极与所述目标段的第二端耦接。
在一种可能的实现方式中,所述纹路传感单元还包括与所述光敏采集器的另一端耦接的开关控制器,所述开关控制器和所述修复控制器均位于所述衬底基板与所述光敏采集器之间。
在一种可能的实现方式中,所述开关控制器包括开关晶体管,所述开关晶体管的栅极与采集控制端耦接,其第一极与所述光敏采集器的第一极耦接,其第二极与信号读出端耦接。
在一种可能的实现方式中,所述修复控制器为至少两个,各所述修复晶体管的宽长比相等,且均大于所述开关晶体管的宽长比。
在一种可能的实现方式中,各所述修复晶体管在所述衬底基板上的正投影与所述开关晶体管在所述衬底基板上的正投影互不交叠。
第二方面,本发明实施例提供了一种纹路识别装置,包括:
如上面任一项所述的纹路识别基板。
第三方面,本发明实施例提供了一种如上面任一项所述的纹路识别基板的修复方法,包括:
在测试阶段,获得流经所述光敏采集器的测试电流值;
若确定所述测试电流值大于预设电流值,则断开所述目标段;
控制所述至少一个修复控制器导通,耦接所述目标段的相对两端。
在一种可能的实现方式中,所述修复控制器为至少两个,所述方法还包括:
控制各所述修复控制器交替导通。
在一种可能的实现方式中,各所述修复控制器交替导通的时长相同。
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