[发明专利]一种微孔陶瓷吸附平台及基于其制备无印记产品的方法在审
申请号: | 202111365112.3 | 申请日: | 2021-11-17 |
公开(公告)号: | CN114063397A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 庞军星;乔晓光;党康康 | 申请(专利权)人: | 华天慧创科技(西安)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 张宇鸽 |
地址: | 710018 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微孔 陶瓷 吸附 平台 基于 制备 印记 产品 方法 | ||
本发明公开了一种微孔陶瓷吸附平台及基于其制备无印记产品的方法,不含有传统的沟槽设计,从而解决超薄玻璃印记的技术,替代传统沟沟槽类真空吸附平台,基于该吸附平台制备无印记产品时,依次进行图形光刻、涂覆黑胶薄膜、软烤、曝光和固化,得到无印记产品。制作工艺简单,易于操作。验证制作的微孔陶瓷吸附平台的设备匹配性,重量,平坦度,吸附效果,破真空效果,微粒附着状况;通过相同工艺条件,对比传统沟槽吸附平台与微孔陶瓷吸附平台光刻后暗场强光灯下观察,确认使用微孔陶瓷吸附平台做出的产品,吸附印记异常消失。
技术领域
本发明属于光学镜头制作领域,涉及一种微孔陶瓷吸附平台及基于其制备无印记产品的方法。
背景技术
传统沟槽吸附平台都为沟槽设计,制作光学镜头的基底为超薄玻璃(厚度70~140μm),沟槽吸附平台很容易造成超薄玻璃发生沟槽状的形变,从而造成在光刻时因沟槽内外高度差异造成的Focus差异,从而最终造成光刻完成后沟槽内外图像的尺寸存在差异造成不良。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术中,吸附平台具有沟槽使得基于其制备的产品具有印记的缺点,提供一种微孔陶瓷吸附平台及基于其制备无印记产品的方法。
为了达到上述目的,本发明采用以下技术方案予以实现:
一种微孔陶瓷吸附平台,包括吸附板,吸附板为圆形,吸附板的中心开设有三个第一通孔,吸附板的边缘均匀开设有三个第二通孔;
吸附板为微孔陶瓷板,微孔陶瓷板中,开孔率为40%,孔径大小为10~20μm。
优选地,微孔陶瓷板的抗弯强度大于40Mpa,抗压强度大于等于600Mpa,HRA硬度大于50;
微孔陶瓷板中,相邻微孔之间设有孔隙,孔隙的大小为5~20μm。
优选地,微孔陶瓷板包括氧化铝和二氧化硅;
以质量百分数计,微孔陶瓷板中,氧化铝的含量至少为80%,二氧化硅的含量为18%。
优选地,微孔陶瓷板的耐酸性小于等于10mg/cm2,耐碱性小于20mg/cm2;
微孔陶瓷板的体积密度为2.3~2.5g/cm3。
一种基于所述微孔陶瓷吸附平台制作无印记产品的方法,包括如下步骤:
步骤1)利用光刻胶在吸附板上进行图形光刻;
步骤2)在光刻后的吸附板表面涂覆黑胶薄膜;
步骤3)对涂覆黑胶薄膜的吸附板依次进行软烤、曝光和固化,得到基于微孔陶瓷吸附平台制作的无印记产品。
优选地,光刻胶由感光树脂、增感剂和溶剂混合而成,其中感光树脂、增感剂和溶剂的投料比为(0.2~1)g:1g:10ml。
优选地,光刻胶按其形成的图像分为正性、负性两类,
正性光刻胶为线性酚醛树脂;
负性光刻胶为聚乙烯醇月桂酸酯。
优选地,步骤2)中,黑胶薄膜的涂覆厚度为1.2um;
步骤3)中,软烤的条件为:温度90℃下烘烤60s;固化具体是在温度220℃下加热20min。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
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