[发明专利]一种晶圆喷砂双供料机

说明书

本发明公开了一种晶圆喷砂双供料机，其包括喷砂机，喷砂机包括喷砂机本体和履带输送机，喷砂机本体设置在履带输送机中部的上端，履带输送机的两端伸出喷砂机本体；喷砂机设置有两台，喷砂机分别设置在双供料机的左右两侧，双供料机包括工作台、双供料机构、搬运机构、输送机构和放料机械手；本发明通过双供料机构的设置，能同时向两个喷砂机供料，减少了上料的频率，通过搬运机构、输送机构和放料机械手能对晶圆自动进行搬运，提高了设备的自动化程度，避免了人工的搬运，大大提高晶圆喷砂的效率，通过气浮分离模组和输送机构的设置，减小了晶圆的叠片率，提高了晶圆喷砂上料的稳定性，保证了喷砂质量。

技术领域

本发明涉及晶圆喷砂技术领域，具体为一种晶圆喷砂双供料机。

背景技术

晶圆在生产过程中，将硅锭切割成晶圆后部分晶圆可能需要进行喷砂处理，以利于晶圆的后续处理。喷砂机由于磨料对工件表面的冲击和切削作用，使工件的表面获得一定的清洁度和不同的粗糙度，使工件表面的机械性能得到改善，因此提高了工件的抗疲劳性，增加了它和涂层之间的附着力，消除工件残余应力和提高基材表面硬度的作用。

现有的喷砂机在工作时出现无法进行自动上料操作的问题，需手动将需要喷砂的晶圆放入喷砂机内部的传输带上，人工上料耗费时间较长，导致喷砂机的效率低下；人工上料的过程中，容易发生晶圆与喷砂机碰撞、晶圆与晶圆之间碰撞，从而使晶圆产生缺角或破片的情况，会导致碎片率上升；此外，人工上料不稳定，不仅会产生叠片的问题，还产生摆放位置重叠的问题，导致喷砂不充分，影响半导体晶圆的生产良率；针对上述问题，我们提出一种晶圆喷砂双供料机。

发明内容

本发明的目的在于提供一种晶圆喷砂双供料机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种晶圆喷砂双供料机，其包括喷砂机，喷砂机包括喷砂机本体和履带输送机，喷砂机本体设置在履带输送机中部的上端，履带输送机的两端伸出喷砂机本体；

喷砂机设置有两台，喷砂机分别设置在双供料机的左右两侧，双供料机包括工作台、双供料机构、搬运机构、输送机构和放料机械手，双供料机构设置在工作台的前部，其包括结构相同的左供料机构和右供料机构，其用于储放晶圆，输送机构设置有两个且设置在工作台的中部，两个输送机构分别设置在左供料机构和右供料机构的后侧，搬运机构用于将晶圆从双供料机构内搬运到输送机构上，其设置有两个且分别设置在两个输送机构的外侧，输送机构上设置有用于检测单双片的传感器，当输送机构上的晶圆为单片时，通过放料机械手将晶圆搬运到履带输送机上，放料机械手左右对称设置有两个，其分别设置在两个输送机构的后侧。

优选的，左供料机构包括第一安装板、顶升机构、顶盘、顶升杆、定位座和定位杆，顶升机构固定在第一安装板的下方，其输出端与顶升杆固定连接，顶升杆的上端固定安装有顶盘，第一安装板的上方设置有定位座，定位座上成环形阵列设置有若干个定位杆，定位座的中心处开设有用于通过顶盘的避让孔，晶圆放置在定位杆的中间。

优选的，左供料机构还包括导向座、第一气缸和支座，导向座上开设有导向槽，导向槽的后侧为一字槽，其前侧为弧型槽，定位座的左右两端通过销轴设置在导向槽内，定位座的后方设置有第一气缸，第一气缸的活塞杆与定位座的后端转动连接，其后端转动安装在支座上。

优选的，顶升机构包括第二安装板、第一电机、固定杆、螺杆和螺纹座，第二安装板平行设置在第一安装板的下方，固定杆固定在第一安装板和第二安装板之间，第二安装板的下端固定有第一电机，第一电机的电机轴伸出第二安装板且与螺杆固定连接，螺杆上安装有螺纹座，顶升杆的下端安装在螺纹座上。