[发明专利]一种磁性材料及其制备方法和应用在审
申请号: | 202111387171.0 | 申请日: | 2021-11-22 |
公开(公告)号: | CN114284016A | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 于永江;宿云婷;王聪;金艳梅 | 申请(专利权)人: | 烟台正海磁性材料股份有限公司 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;H01F41/02;H02K1/06 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 张炳楠;吕少楠 |
地址: | 264006 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁性材料 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明提供一种磁性材料及其制备方法和应用。所述R‑T‑B系磁体含有Al元素,所述Al元素在晶界中的浓度大于其在晶粒中的浓度,所述R‑T‑B系磁体由扩散源对R‑T‑B系烧结基体进行扩散处理得到。本发明提供的稀土烧结R‑T‑B系磁体,具有表面向中心处呈梯度分布的Al元素和重稀土元素,通过控制R‑T‑B系烧结基体中关键元素的含量、采用辅助扩散材、控制扩散处理方式,使得重稀土元素进一步向磁体内部扩散,所得磁体的Hcj较扩散前的磁体基体具有明显的提升。
技术领域
本发明属于稀土永磁材料领域,涉及一种高性能R-Fe-B类烧结磁性材料及其制备方法和应用。
背景技术
Nd-Fe-B系磁体因其优越的性能被广泛应用,由于汽车和电子应用领域对节能电动机的需求,烧结钕铁硼的市场应用会进一步扩大。钕铁硼材料剩磁和矫顽力的提高有利于其在电动机市场的快速增长,但是传统工艺矫顽力的提高总是以牺牲剩磁为代价,且为提高矫顽力必须使用较大比重的重稀土元素Dy/Tb,造成磁体成本的剧增,所以降低重稀土元素使用量成为稀土永磁领域的研究热点。通过对磁体微观组织的分析,确认了晶界扩散重稀土元素的方式,可以有效地减少晶粒边界散射场,减弱磁交换耦合作用,使晶粒边界磁硬化,在磁体剩磁基本不降低的前提下,矫顽力得到大幅度提高,通过这种方式提高磁体性能可以有效控制磁体成本。
晶界扩散法为了提高Nd-Fe-B系烧结磁体的矫顽力,其主要从磁体表面将Dy或Tb元素沿晶界扩散至磁体内部。
专利文献1(CN101521068B)公开了一种表面涂覆扩散法,在烧结阶段,在磁铁表面包覆含有重稀土类元素RH的金属、合金或化合物,进行热处理使之扩散。但由于涂布不均匀,会造成渗透量不均衡,最终导致磁性能的差异,且该方法不适用于生产异形瓦状产品。
专利文献2(CN101331566B)公开了一种蒸发扩散法,通过加热的方式使重稀土元素形成蒸汽,然后缓慢扩散至磁体内部。蒸发法通过支架等部件隔离磁体和重稀土扩散源,在实际操作过程中支撑架的布置较为复杂,大大增加摆料时的难度,蒸发法中的蒸汽浓度较难控制,存在批量生产性变差的问题。
专利文献3(CN102473515B)和专利文献4(CN10404654B)公开了一种磁体与扩散源混合的动态接触式扩散方法。根据专利文献3的方法,在500℃-850℃的温度下,RH扩散源与R-T-B系烧结磁体动态接近或接触,使得RH扩散源供给重稀土元素RH,通过晶界扩散到其内部。方法所采用的扩散源是Dy金属、或Tb金属、或Dy>70%的Dy合金、或Tb>70%的Tb合金,但该种RH扩散源在850℃以上的处理温度中,会与磁体发生熔接,因此不能通过提高处理温度加快扩散进程,扩散温度必须低于850℃,导致扩散效率低,生产周期长。专利文献4通过改进扩散源的成分,以重稀土元素RH和Fe的合金作为扩散源,其中Fe的含量在30-80%范围内,并且限定基材中R的含量,提高富R相的比率增宽晶界,在860-970℃的扩散温度下,进行动态接触式扩散。该方法可以提高扩散温度,缩短扩散时间,且磁体和扩散源之间不会发生熔接。为了避免磁体与扩散源之间发生熔接,降低了扩散源中重稀土含量,更多地通过接触扩散,使得重稀土元素RH与磁体中的Nd、Pr进行扩散置换。但由于稀土含量的降低,导致扩散效率降低。同时,专利文献3和专利文献4所记载的扩散装置还存在如下问题:扩散处理后,需要将扩散源、磁体全部取出后进行筛分才能得到扩散品,此工序需要等待磁体及扩散源完全冷却后才可进行,导致处理量降低,产量降低。
发明内容
为了改善上述技术问题,本发明提供一种R-T-B系磁体,所述R-T-B系磁体含有Al元素,所述Al元素在晶界中的浓度大于其在晶粒中的浓度;
优选地,将所述Al元素在晶界中的浓度记为A,所述Al元素在晶粒中的浓度记为a,A/a的取值范围为1.5~4,例如1.7~3,示例性为1.5、1.53、1.78、2、2.06、2.38、2.5、2.63、2.68、3或任意两点之间的数。其中,所述浓度为距离所述R-T-B系磁体表面500±10μm处的浓度值。
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