[发明专利]一种光学镜片反射膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光学镜片反射膜，其特征在于，光学镜片反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层Ag膜层、第二层YF₃膜层、第三层ZnS膜层、第四层YF₃膜层和第五层ZnS膜层。

2.根据权利要求1所述的一种光学镜片反射膜，其特征在于，第一层Ag膜层的厚度(h1)为190-210nm，第二层YF₃膜层的厚度(h2)为685-715nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为140-160nm，第四层YF₃膜层的厚度(h4)为580-610nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为780-815nm。

3.根据权利要求2所述的一种光学镜片反射膜，其特征在于，第一层Ag膜层的厚度(h1)为200nm，第二层YF₃膜层的厚度(h2)为700nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为150nm，第四层YF₃膜层的厚度(h4)为600nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为800nm。

4.根据权利要求3所述的一种光学镜片反射膜，其特征在于，所述镜片基材为热塑性聚酯、玻璃、石英或蓝宝石。

5.一种光学镜片反射膜的制备方法，包括以下步骤，

S1、通过薄膜光学的基本知识和分析方法，结合软件进行优化，模拟计算得到第一层Ag膜层的厚度(h1)、第二层YF₃膜层的厚度(h2)、第三层ZnS膜层的厚度(h3)、第四层YF₃膜层的厚度(h4)、第五层ZnS膜层的厚度(h5)；

S2、对镜片基材进行清洗、干燥；

S3、采用真空蒸镀的方法对镜片基材镀反射膜。

6.根据权利要求5所述的一种光学镜片反射膜的制备方法，其特征在于，步骤S3镀反射膜的具体步骤如下：

S31、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为220-240℃，采用霍尔离子源轰击银，银蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面形成第一膜层，第一膜层的厚度为190-210nm；

S32、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击YF₃，YF₃蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面形成第二膜层，第二膜层的厚度为685-715nm；

S33、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击ZnS，ZnS蒸发后以纳米级分子形式沉积于第二膜层的外表面形成第三膜层，第三膜层的厚度为140-160nm；

S34、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击YF₃，YF₃蒸发后以纳米级分子形式沉积于第三膜层的外表面形成第四膜层，第四膜层的厚度为580-610nm；

S35、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击ZnS，ZnS蒸发后以纳米级分子形式沉积于第四膜层的外表面形成第五膜层，第五膜层的厚度为780-815nm。

7.根据权利要求5所述的一种光学反射膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S2，对镜片基材的清洗具体步骤如下：

S21、将镜片基体先放入双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25-30min；

S22、将镜片基体放入异丙醇溶剂中超声25-30min；

S23、用去离子水和蒸馏水漂洗；

S24、清洗结束后将镜片基体置于烘箱干燥，干燥后固定在基片台上，然后将基片台旋紧在真空腔室的转盘上。

8.根据权利要求1所述的一种光学镜片反射膜的制备方法，其特征在于，利用膜厚仪监控薄膜的厚度。