[发明专利]一种光学镜片反射膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种一种光学镜片反射膜，光学镜片反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层Ag膜层、第二层YF₃膜层、第三层ZnS膜层、第四层YF₃膜层和第五层ZnS膜层，其中第一层Ag膜层的厚度(h1)为190‑210nm，第二层YF₃膜层的厚度(h2)为685‑715nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为140‑160nm，第四层YF₃膜层的厚度(h4)为580‑610nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为780‑815nm。本发明在基片上真空蒸镀的反射膜，具有优异的高反射性能，能把大部分光波反射回去，从而防止强光对人眼造成伤害。

技术领域

本发明涉及镜片领域，具体涉及一种光学镜片反射膜及其制备方法。

背景技术

眼睛作为人体的视器，长期与外界环境接触，十分脆弱，容易受到外界因素的刺激，其中外界光线强度为主要影响因素。因为强光会刺激双眼，引起眼睛干涩，眼睛流泪等不适症状，从而进一步加重视疲劳，导致视力下降，严重情况下可致白内障。为此市场上出现了针对强光刺激眼睛的墨镜、半墨镜，如太阳眼镜等，但是这类眼镜大都是采用偏振光技术制成的镜片，只能减少漫反射光线的照射而无法真正降低入射光线的强度。

发明内容

为克服上述缺点，本发明的目的在于提供一种光学镜片反射膜及其制备方法。经研究发现通过本发明提供的制备方法制得的反射膜具有良好的反射率。

为了达到以上目的，本发明采用的技术方案是：一种光学镜片反射膜，光学镜片反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层Ag膜层、第二层YF₃膜层、第三层ZnS膜层、第四层YF₃膜层和第五层ZnS膜层。

优选地，第一层Ag膜层的厚度(h1)为190-210nm，第二层YF₃膜层的厚度(h2)为685-715nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为140-160nm，第四层YF₃膜层的厚度(h4)为580-610nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为780-815nm。

优选地，第一层Ag膜层的厚度(h1)为200nm，第二层YF₃膜层的厚度(h2)为700nm，第三层ZnS膜层的厚度(h3)为150nm，第四层YF₃膜层的厚度(h4)为600nm，第五层ZnS膜层的厚度(h5)为800nm。

优选地，所述镜片基材为热塑性聚酯、玻璃、石英或蓝宝石。

一种光学镜片反射膜的制备方法，包括以下步骤，

S1、通过薄膜光学的基本知识和分析方法，结合软件进行优化，使光学镜片的反射膜的平均反射率大于95％，模拟计算得到第一层Ag膜层的厚度(h1)、第二层YF₃膜层的厚度(h2)、第三层ZnS膜层的厚度(h3)、第四层YF₃膜层的厚度(h4)、第五层ZnS膜层的厚度(h5)；

S2、对镜片基材进行清洗、干燥；

S3、采用真空蒸镀的方法对镜片基材镀反射膜。

优选地，步骤S3镀反射膜的具体步骤如下：

S31、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为220-240℃，采用霍尔离子源轰击银，银蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面形成第一膜层，第一膜层的厚度为190-210nm；

S32、将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击YF₃，YF₃蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面形成第二膜层，第二膜层的厚度为685-715nm；