[发明专利]一种硅片生产用高温臭氧氧化装置

权利要求书

1.一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，包括工作台（101）和壳体（102），所述壳体（102）上设置有进料口（103）和出料口（104），其特征在于，所述工作台（101）的上侧壁设置有用于对硅片进行输送的输送机构，且输送机构通过驱动机构进行驱动，所述壳体（102）内设置有多组用于对硅片进行加热的加热机构和用于对硅片表面进行氧化的氧化机构，且加热机构和氧化机构位于输送机构的上方；

所述输送机构包括固定连接在工作台（101）上侧壁两个对称设置的固定板（201），且固定板（201）两个相对的侧壁通过传动轴（202）转动连接有多个阵列设置的陶瓷滚动轴（203），所述陶瓷滚动轴（203）套设在传动轴（202）的侧壁上，且陶瓷滚动轴（203）和传动轴（202）之间设置有缓震组件，所述传动轴（202）的侧壁固定套设有挡板（204）；所述缓震组件包括开设在各个传动轴（202）侧壁上的多个环形槽（801），且环形槽（801）内套设有密封圈（802），所述密封圈（802）与陶瓷滚动轴（203）的内侧壁相抵；

各组所述加热机构包括灯腔组，且灯腔组包括下灯腔（401）和上灯腔（402），所述下灯腔（401）固定连接在工作台（101）的上侧壁，且上灯腔（402）设置在固定板（201）的上侧壁上，所述陶瓷滚动轴（203）插设在下灯腔（401）内，且上灯腔（402）的两端固定连接有灯罩壳（403），所述上灯腔（402）内设置有加热灯管（404），且灯腔组内设置有降温组件；所述降温组件包括设置在灯腔组内的内置流道（501），且内置流道（501）的侧壁设置有进水管（502）和出水管（503），所述进水管（502）和出水管（503）的另一端贯穿灯腔组的侧壁设置，各个所述内置流道（501）的侧壁开设有多个阵列设置的第一散热槽（9）；

各组所述氧化机构包括固定连接在固定板（201）两个相对侧壁上两个对称设置的第一型材（701），且第一型材（701）的上侧壁固定连接有臭氧框架（702），所述臭氧框架（702）的上侧壁固定连接有两个对称设置的第二型材（703），且第二型材（703）的上侧壁固定连接有顶板（704），所述臭氧框架（702）的下方设置有U形的喷淋板（705），且喷淋板（705）的下侧壁通过支撑条（708）固定连接有喷淋面板（706），所述喷淋面板（706）的侧壁设置有多个气孔（709），所述臭氧框架（702）的侧壁设置有多个臭氧喷头（707），且臭氧喷头（707）贯穿喷淋板（705）的下侧壁设置。

2.根据权利要求1所述的一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，其特征在于：所述驱动机构包括固定连接在工作台（101）侧壁上的驱动电机（302），所述驱动电机（302）的输出端贯穿工作台（101）的侧壁并固定连接有主动皮带轮（303），且位于同一侧的传动轴（202）的一端贯穿固定板（201）的侧壁并固定连接有从动皮带轮（301），所述工作台（101）的侧壁设置有多个张紧轮（304），且从动皮带轮（301）、张紧轮（304）和主动皮带轮（303）之间通过皮带（305）传动。