[发明专利]通过监控掩膜版补偿制程偏移量的方法和装置

说明书

本发明提供了通过监控掩膜版补偿制程偏移量的方法和装置，包括：检测光罩的当前对位标记；判断当前对位标记与镜头视野中央是否重合；如果不重合，则根据当前对位标记计算差异值；将差异值补偿到切换后的产品的当前玻璃片中，并检测当前玻璃片的偏移量；将当前玻璃片的偏移量补偿到下一玻璃片中，并检测补偿结果；通过计算的差异值提前对切换后的产品进行补偿，可以有效避免由于偏移量超出规格而进行的重复补偿，减少首件片的重新加工，有效提升产能。

技术领域

本发明涉及面板制造领域，尤其是涉及通过监控掩膜版补偿制程偏移量的方法和装置。

背景技术

在面板制造业，一块液晶显示屏分为上板与下板两块玻璃。在普通工艺中，上板需进行CF(Color filter)黄光制程，即将光阻均匀的涂布在基板上，依照设定图案曝光，用显影液将曝光后的光阻显影形成图案，从而得到BM/R/G/B/PS pattern。在进行每一层的制程时，都需要通过对位以及检测OVL(Over Lay，偏移量)来保证与监控当层制程是否对准，若OVL较大，则意味着当层制程相对于前层制程存在较大的偏移量，产品会出现漏光等品质异常，从而导致基板报废造成良率损失。参照图1和图2，在图1中，前层制程与当层制程对准，而在图2中，前层制程与当层制程存在偏移量。

OVL是黄光制程的重要参数，在黄光制程中，经常会进行产品切换和光罩切换，由此很容易造成OVL的偏差。传统的生产监控方式，是采用量测--补偿--量测的方式，即从当前产品切换到下一产品后，量测切换后的产品的偏移量，根据偏移量进行补偿，并对补偿后的结果进行确认。这种方式直接通过偏移量进行补偿，如果偏移量较大，不满足需求，则需要进行多次补偿，从而面临多次补偿的风险；并且先批次的产品，无法确定偏移量的补偿是否有效，如果超出规格，则需要重新加工，从而造成产能浪费。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供通过监控掩膜版补偿制程偏移量的方法和装置，通过计算的差异值提前对切换后的产品进行补偿，可以有效避免由于偏移量超出规格而进行的重复补偿，减少首件片的重新加工，有效提升产能。

第一方面，本发明实施例提供了通过监控掩膜版补偿制程偏移量的方法，所述方法包括：

检测光罩的当前对位标记；

判断所述当前对位标记与镜头视野中央是否重合；

如果不重合，则根据所述当前对位标记计算差异值；

将所述差异值补偿到切换后的产品的当前玻璃片中，并检测所述当前玻璃片的偏移量；

将所述当前玻璃片的偏移量补偿到下一玻璃片中，并检测补偿结果。

进一步的，所述根据所述当前对位标记计算差异值，包括：

计算所述当前对位标记偏离所述镜头视野中央的当前光罩偏移量；

根据所述当前光罩偏移量和前一光罩偏移量，计算所述差异值。

进一步的，在检测所述补偿结果后，所述方法还包括：

判断所述补偿结果是否满足要求；

如果不满足，则加量所述补偿结果。

进一步的，在检测所述光罩的当前对位标记前，所述方法还包括：

将所述光罩设置在所述镜头上进行对位。

第二方面，本发明实施例提供了通过监控掩膜版补偿制程偏移量的装置，所述装置包括：

检测单元，用于检测光罩的当前对位标记；

第一判断单元，用于判断所述当前对位标记与镜头视野中央是否重合；

差异值计算单元，用于在不重合的情况下，根据所述当前对位标记计算差异值；