[发明专利]一种半导体用晶圆扩晶系统在审
申请号: | 202111410268.9 | 申请日: | 2021-11-25 |
公开(公告)号: | CN114242635A | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 许霞仂 | 申请(专利权)人: | 许霞仂 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 344000 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 用晶圆扩 晶系 | ||
本发明公开了一种半导体用晶圆扩晶系统,包括机壳,机壳内设有动力腔,动力腔左右两侧端面内对称设有两个带轮腔,动力腔下端壁内设有偏轴轮腔,机壳内设有扩晶机构、辅助机构、传动机构,扩晶机构能够对晶圆进行挤压,使晶圆产生塑形变形,实现晶圆的扩晶,辅助机构能够完成扩晶过程中加热,贴蓝膜等辅助工作,传动机构能够为扩晶机构、辅助机构提供动力,通过扩晶机构中设有的能够平移运动的扶正板,从而能够调整晶圆位置,从而保证晶圆扩晶时位置处于放置腔中间位置,通过辅助机构中设有的能够自动旋转放料、卷料的放卷轮,从而实现蓝膜的自动覆盖晶圆,保证扩晶质量,通过扩晶机构中设有的能够旋转切割蓝膜的切割刀,从而实现自动切割蓝膜。
技术领域
本申请涉及晶圆扩晶技术领域,尤其涉及一种半导体用晶圆扩晶系统。
背景技术
为了便于晶圆的切割和贴装,当晶圆组件出厂后,需要对晶圆组件进行扩晶处理,在晶圆扩晶过程中需要对晶圆表面覆盖一层蓝膜,由于在蓝膜覆盖过程中难免会出现蓝膜折叠导致影响晶圆表面质量,同时在切割蓝膜时无法保证是否会损伤晶圆,现有的晶圆扩晶装置结构复杂,使用不便,导致扩晶效率低下。
发明内容
为解决以上问题,本发明通过以下技术方案予以实现:
一种半导体用晶圆扩晶系统,包括机壳,所述机壳内设有动力腔,所述动力腔左右两侧端面内对称设有两个带轮腔,所述动力腔下端壁内设有偏轴轮腔,所述带轮腔上端面内设有顶升腔,两个所述顶升腔上端面内设有扩晶腔,所述扩晶腔上端面内设有压块,所述压块后端面内设有与所述压块连通的啮合轮腔,所述机壳内设有扩晶机构、辅助机构、传动机构,所述扩晶机构能够对晶圆进行挤压,使晶圆产生塑形变形,实现晶圆的扩晶,所述辅助机构能够完成扩晶过程中加热,贴蓝膜等辅助工作,所述传动机构能够为扩晶机构、辅助机构提供动力;
所述传动机构包括所述动力腔下端壁固定连接的驱动电机,所述驱动电机动力连接有动力轴,所述动力轴固定连接有磁力块,所述磁力块内设有两个左右对称的磁力腔,所述磁力腔下端壁固定连接有左右对称的两个电磁铁,所述磁力腔内滑动连接有磁力板,所述磁力板与所述磁力腔上端壁连接设有磁力弹簧,所述磁力板固定连接有贯穿所述磁力腔的升降杆,所述升降杆固定连接有位于所述动力腔内的接触块、摩擦块,所述动力腔上下端壁之间转动连接有接触轮轴,所述接触轮轴固定连接有接触轮、主动轮,所述接触轮能够与所述接触块接触,所述动力腔下端壁转动连接有一端位于所述啮合轮腔内的摩擦轮轴,所述摩擦轮轴固定连接有位于所述动力腔内的摩擦轮,所述摩擦轮能够与所述摩擦块接触,所述带轮腔下端壁转动连接有一端位于所述顶升腔内的带轮轴,所述带轮轴固定连接有位于所述带轮腔内的传送带轮,两个所述传送带轮与所述主动轮之间连接设有传动带。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造