[发明专利]一种衍射光栅刻蚀机在审
申请号: | 202111410498.5 | 申请日: | 2021-11-25 |
公开(公告)号: | CN114167531A | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 孙仙凤 | 申请(专利权)人: | 孙仙凤 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 311600 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 衍射 光栅 刻蚀 | ||
本发明公开了一种衍射光栅刻蚀机,包括机壳,机壳的内部设有刻蚀腔,刻蚀腔的右端固定设有入料口,刻蚀腔的上端设有水平转动机构,水平转动机构的下端设有竖直移动机构,竖直移动机构的中部设有角度调整机构,角度调整机构的前端设有竖直角度调整机构;通过设置的竖直移动机构、角度调整机构和竖直角度调整机构,通过三个机构之间的联动关系,实现了对光栅位置水平角度和竖直角度的调整;同时通过角度调整机构,实现了在进行光栅衍射时可根据刻蚀品的加工位置自动进行调整;同时通过竖直角度调整机构中设置的伸缩块和伸出块,利用滑块和螺纹之间的传动,实现了竖直角度调整机构水平方向上的自由伸缩。
技术领域
本申请涉及刻蚀机领域,为一种衍射光栅刻蚀机。
背景技术
常用的光刻机是掩膜对准光刻。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶,刻蚀等工序。感应耦合等离子体刻蚀法是化学过程和物理过程共同作用的结果;它的基本原理是在真空低气压下,ICP射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电,产生高密度的等离子体,这些等离子体对基片表面进行轰击,对加工产品进行刻蚀。
发明内容
鉴于上述现有技术的状态而做出本申请。本申请的目的在于提供一种衍射光栅刻蚀机,采用如下技术方案:
本申请提供了一种衍射光栅刻蚀机,包括机壳,所述机壳的内部设有刻蚀腔,所述刻蚀腔的右端固定设有入料口,所述刻蚀腔的上端设有水平转动机构,所述水平转动机构的下端设有竖直移动机构,所述竖直移动机构的中部设有角度调整机构,所述角度调整机构的前端设有竖直角度调整机构;所述水平转动机构用于调节装置的水平角度,所述角度调整机构和竖直角度调整机构用于调节光栅的竖直角度,所述竖直移动机构用于光栅的竖直位置的调节;所述水平转动机构包括转动设置在所述刻蚀腔上端壁处的竖直转轴,所述竖直转轴的下端固定设有水平转动盘,所述水平转动盘的上端面处固定设有环形从动齿,所述刻蚀腔的左端壁处固定设有水平电机,所述水平电机的右端驱动连接水平电机转轴,所述水平电机转轴的右端固定连接主动齿轮,所述主动齿轮能够和所述环形从动齿啮合传动,所述刻蚀腔的下端壁处固定设有固定台,所述固定台的上端固定连接刻蚀平台,所述刻蚀平台用于放置待刻蚀的物品,所述水平转动盘的下端面处固定设有连接块,所述竖直移动机构包括固定连接在所述连接块下端面处的竖直辅助块,所述竖直辅助块的内部设有竖直辅助腔,所述竖直辅助腔的右端固定设有竖直移动辅助块,所述竖直移动辅助块中设有竖直滑槽,所述竖直滑槽中滑动设有竖直滑块,所述竖直滑块的下端面处固定设有复位弹簧,所述复位弹簧的下端固定连接在所述竖直滑槽的下端面处,所述竖直滑块上固定连接桁架。
在至少一个优选实施方式中,所述桁架的左端固定连接竖直螺纹块,所述竖直辅助腔的下端壁处固定设有竖直螺纹电机,所述竖直螺纹电机的上端驱动连接竖直螺纹杆,所述竖直螺纹杆能够和所述竖直螺纹块螺纹传动。
在至少一个优选实施方式中,所述角度调整机构包括固定连接在所述桁架上端的竖直转动操作块,所述竖直转动操作块的内部设有竖直转动槽,所述竖直转动槽的中部转动设有竖直转动块,所述竖直转动块的中部连接设有中部连接杆,所述中部连接杆的中部固定设有中部竖直连动杆,所述中部竖直连动杆的下端固定设有衍射镜头,所述衍射镜头用于光栅的衍射,所述中部竖直连动杆的上端固定设有球槽,所述球槽中滚动设有转动球。
在至少一个优选实施方式中,所述竖直角度调整机构包括固定转动连接在所述刻蚀腔前端壁处的铰接块,所述铰接块的左端固定连接伸缩块,所述伸缩块的内部设有伸缩腔,所述伸缩腔的上下端壁处固定设有伸缩滑槽,所述伸缩滑槽中滑动设有伸缩槽滑块,所述伸缩槽滑块的中部固定设有伸出块,所述伸出块的内部设有螺纹腔,所述螺纹腔的右端固定设有伸缩螺纹块,所述伸缩腔的右端壁处固定设有伸缩螺纹电机,所述伸缩螺纹电机的左端驱动连接水平螺纹杆,所述水平螺纹杆能够和所述伸缩螺纹块螺纹传动,所述伸出块的左端固定设有角度联动杆,所述角度联动杆的左端固定连接在所述转动球的右端。
在至少一个优选实施方式中,所述刻蚀腔的左端壁处固定设有光源模块,所述光源模块右端贴近所述衍射镜头;所述光源模块用于光栅光源发射。
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