[发明专利]一种MOCVD设备的加热系统及MOCVD设备在审
| 申请号： | 202111427462.8 | 申请日： | 2021-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN113846374A | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 宋涛;朱金华;李辉;周国军;张超 | 申请（专利权）人： | 山西中科潞安紫外光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;C30B25/10;C30B25/12 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 申龙华 |
| 地址： | 047500 山西*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 mocvd 设备 加热 系统 | ||
1.一种MOCVD设备的加热系统，其包括加热盘（2），其特征在于，还包括热辐射防护组件、陶瓷支撑组件、导电组件和绝缘支撑筒（6），所述热辐射防护组件包括基板（4）和设置在所述基板（4）上的反射板（3），所述加热盘（2）通过所述陶瓷支撑组件支撑在所述反射板（3）的上方，所述导电组件包括导电支撑板（5）、铜排（7）和电极（8），所述铜排（7）与所述电极（8）相连且所述电极（8）的上端与所述导电支撑板（5）相连，所述基板（4）通过所述绝缘支撑筒（6）支撑在所述导电支撑板（5）的上方，所述导电支撑板（5）通过穿过所述基板（4）和反射板（3）的接线柱与所述加热盘（2）相连。
2.根据权利要求1所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，所述基板（4）上设置有四层所述反射板（3）。
3.根据权利要求1所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，所述热辐射防护组件还包括隔热筒（1），所述隔热筒（1）从所述加热盘（2）的周围包裹住所述加热盘（2）。
4.根据权利要求1所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，进一步包括水冷组件，所述水冷组件用于给所述电极（8）降温。
5.根据权利要求4所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，所述水冷组件包括水嘴（9）和水管（10），所述水嘴（9）安装在所述电极（8）的下端，所述水管（10）与所述水嘴（9）相连。
6.根据权利要求1所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，所述陶瓷支撑组件包括陶瓷支撑丝（11）和支撑所述陶瓷支撑丝（11）的陶瓷支撑杆（12），所述陶瓷支撑杆（12）安装在所述反射板（3）和基板（4）中，所述陶瓷支撑丝（11）安装在所述陶瓷支撑杆（12）的上端且位于所述反射板（3）的上方。
7.根据权利要求6所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，所述陶瓷支撑丝（11）设计成n型且其两端分别与一根所述陶瓷支撑杆（12）的上端相连。
8.根据权利要求7所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，所述陶瓷支撑组件还包括陶瓷支撑板（13），所述陶瓷支撑板（13）安装在两根所述陶瓷支撑杆（12）的上端并且所述陶瓷支撑丝（11）的两端分别连接在所述陶瓷支撑板（13）上。
9.根据权利要求8所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，所述陶瓷支撑丝（11）、陶瓷支撑杆（12）和陶瓷支撑板（13）均由氮化硼制成。
10.根据权利要求1所述的MOCVD设备的加热系统，其特征在于，所述加热盘（2）包括内加热盘和围绕所述内加热盘的外加热盘。
11.一种MOCVD设备，其特征在于，具有权利要求1-10中任一项所述的加热系统。
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