[发明专利]掩膜板及掩膜组件在审

专利信息
申请号: 202111436501.0 申请日: 2021-11-29
公开(公告)号: CN114107897A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 臧公正;李文星;李伟丽;韩冰;张继帅;邱岳 申请(专利权)人: 合肥维信诺科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 尹红敏
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 组件
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,其特征在于,包括:

蒸镀区域,包括至少一个蒸镀开口;

周边区域,包括围绕所述蒸镀区域设置的实体区,所述实体区上开设有应力释放部,所述应力释放部围设所述蒸镀区域呈周向分布。

2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括多个所述蒸镀区域,多个所述蒸镀区域呈行或列排布。

3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述实体区包括至少部分围绕所述蒸镀区域设置的第一遮挡区以及沿所述周边区域外周方向延伸的第二遮挡区,所述第一遮挡区与所述第二遮挡区中的部分区域相连接;

所述应力释放部包括多个第一应力释放孔和/或多个第二应力释放孔,多个所述第一应力释放孔沿行方向,和/或,沿列方向位于所述第一遮挡区与所述第二遮挡区之间;

多个所述第二应力释放孔位于所述第一遮挡区内,所述第一应力释放孔和所述第二应力释放孔均沿所述实体区厚度方向贯穿所述实体区。

4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述第一遮挡区包括至少部分围绕所述蒸镀区域的第一遮挡分区、至少部分围绕所述第一遮挡分区的第二遮挡分区以及至少部分围绕所述第二遮挡分区的第三遮挡分区,所述第一遮挡分区、所述第二遮挡分区以及所述第三遮挡分区由所述蒸镀区域向所述应力释放部方向依次分布;

所述第一遮挡分区、所述第二遮挡分区以及所述第三遮挡分区的厚度相同,或者,所述第一遮挡分区与所述第三遮挡分区的厚度相同,所述第二遮挡分区的厚度小于所述第一遮挡分区的厚度。

5.根据权利要求4所述的掩膜板,其特征在于,沿行方向或列方向位于所述第一遮挡区与所述第二遮挡区之间的所述第一应力释放孔的边缘中,朝向所述蒸镀区域的部分与所述蒸镀区域的边缘形状相匹配,或者,所述第一应力释放孔的形状为矩形;

所述第二应力释放孔形成于所述第三遮挡分区内,所述第二应力释放孔的边缘中朝向所述蒸镀区域的部分与所述蒸镀区域的边缘形状相匹配,或者,所述第二应力释放孔的形状为矩形。

6.根据权利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述第二应力释放孔包括第一子孔和第二子孔,所述第一子孔位于所述第三遮挡分区内、且位于相邻的所述蒸镀区域之间,所述第二子孔位于所述第二遮挡分区内;

优选的,所述第一应力释放孔和所述第一子孔的形状均为矩形,所述第二子孔的形状为圆形或椭圆形。

7.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述应力释放部还包括多个第三应力释放孔,所述掩膜板包括用于张网的第一端和第二端,所述第一端与所述第二端沿第一方向排列,所述第三应力释放孔形成于所述第二遮挡区中沿垂直于所述第一方向相对的区域内,且所述第三应力释放孔形成于所述第二遮挡区中远离所述蒸镀区域一侧,所述第三应力释放孔在垂直于所述第一方向的正投影与所述蒸镀区域在垂直于所述第一方向的正投影无交叠。

8.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述实体区还包括由所述第一遮挡区向所述蒸镀区域延伸的第三遮挡区,所述应力释放部还包括形成于所述第三遮挡区的第四应力释放孔,所述第四应力释放孔为沿所述第三遮挡区厚度方向贯穿所述第三遮挡区的过孔,或者为沿所述第三遮挡区厚度方向的深度小于所述第三遮挡区的厚度的盲孔。

9.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述蒸镀区域的形状为圆形或圆角矩形。

10.一种掩膜组件,其特征在于,包括至少一个如权利要求1-9任一项所述的掩膜板,还包括掩膜板框架以及与所述掩膜板框架固定的支撑条,所述掩膜板设置于所述支撑条背离所述掩膜板框架一侧且与所述掩膜板框架固定。

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