[发明专利]掩膜板及掩膜组件在审

专利信息
申请号: 202111436501.0 申请日: 2021-11-29
公开(公告)号: CN114107897A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 臧公正;李文星;李伟丽;韩冰;张继帅;邱岳 申请(专利权)人: 合肥维信诺科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 尹红敏
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 组件
【说明书】:

本申请公开了一种掩膜板及掩膜组件,掩膜板包括蒸镀区域和周边区域,蒸镀区域包括至少一个蒸镀开口;周边区域包括围绕蒸镀区域设置的实体区,实体区上开设有应力释放部,应力释放部围设蒸镀区域呈周向分布。该掩膜板中,在周边区域形成应力释放部,应力释放部减少了实体区中应力集中部分的体积,且由于应力释放部围绕蒸镀区域的周向分布,从而使得实体区的应力得到均匀的释放,通过在周边区域形成应力释放部使得掩膜板在张网时的应变趋于均一,进而使得掩膜板在张网时不易产生褶皱,从而提高了蒸镀良率。

技术领域

本申请属于显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板及掩膜组件。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示面板具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快等优点,因此应用越来越广泛,成为显示面板的主流技术。在OLED显示面板的制备过程中,需要应用真空蒸镀技术来形成显示面板中的部分膜层,真空蒸镀技术中需要使用掩膜板,以控制用于形成膜层的有机材料的位置。掩膜板主要包括通用金属掩膜板(Common Metal Mask,CMM)及精密金属掩膜板(Fine MetalMask,FMM),CMM用于蒸镀共通层,FMM用于蒸镀发光层。

精密金属掩膜板(FMM)为网面结构,包括显示区和非显示区以满足显示面板的不同区域功能,精密金属掩膜板在张网时容易出现褶皱,在蒸镀时易出现精密金属掩膜板局部无法被磁场吸附摊平的现象,从而影响蒸镀效果。

发明内容

本申请实施例提供了一种掩膜板及掩膜组件,该掩膜板在张网时不易产生褶皱,从而提高了蒸镀良率。

本申请实施例第一方面的实施例提供了一种掩膜板,包括:

蒸镀区域,包括至少一个蒸镀开口;

周边区域,包括围绕所述蒸镀区域设置的实体区,所述实体区上开设有应力释放部,所述应力释放部围设所述蒸镀区域呈周向分布。

根据本申请第一方面的实施方式,所述掩膜板包括多个所述蒸镀区域,多个所述蒸镀区域呈行或列排布。

根据本申请第一方面的实施方式,所述实体区包括至少部分围绕所述蒸镀区域设置的第一遮挡区以及沿所述周边区域外周方向延伸的第二遮挡区,所述第一遮挡区与所述第二遮挡区中的部分区域相连接;

所述应力释放部包括多个第一应力释放孔和/或多个第二应力释放孔,多个所述第一应力释放孔沿行方向,和/或,沿列方向位于所述第一遮挡区与所述第二遮挡区之间;

多个所述第二应力释放孔位于所述第一遮挡区内,所述第一应力释放孔和所述第二应力释放孔均沿所述实体区厚度方向贯穿所述实体区。

根据本申请第一方面的实施方式,所述第一遮挡区包括至少部分围绕所述蒸镀区域的第一遮挡分区、至少部分围绕所述第一遮挡分区的第二遮挡分区以及至少部分围绕所述第二遮挡分区的第三遮挡分区,所述第一遮挡分区、所述第二遮挡分区以及所述第三遮挡分区由所述蒸镀区域向所述应力释放部方向依次分布;

所述第一遮挡分区、所述第二遮挡分区以及所述第三遮挡分区的厚度相同,或者,所述第一遮挡分区与所述第三遮挡分区的厚度相同,所述第二遮挡分区的厚度小于所述第一遮挡分区的厚度。

根据本申请第一方面的实施方式,沿行方向或列方向位于所述第一遮挡区与所述第二遮挡区之间的所述第一应力释放孔的边缘中朝向所述蒸镀区域的部分与所述蒸镀区域的边缘形状相匹配,或者,所述第一应力释放孔的形状为矩形;

所述第二应力释放孔形成于所述第三遮挡分区内,所述第二应力释放孔的边缘中朝向所述蒸镀区域的部分与所述蒸镀区域的边缘形状相匹配,或者,所述第二应力释放孔的形状为矩形。

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