[发明专利]磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶光产酸剂的应用在审
申请号: | 202111444525.0 | 申请日: | 2021-11-30 |
公开(公告)号: | CN116203795A | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
发明(设计)人: | 方书农;王溯;耿志月;唐晨 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 陈卓 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 亚胺 化合物 作为 krf 光刻 胶光产酸剂 应用 | ||
1.一种磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶组合物中的光产酸剂的应用,其特征在于,所述的磺酸亚胺类化合物为如式Ⅰ所示的化合物;
式Ⅰ中,n为0、1、2或3;
R1为-COOR1-1或C1-4烷基;R1-1为C1-4烷基;
R2为C1-4烷基。
2.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的磺酸亚胺类化合物满足以下条件的一种或多种:
(1)n为0、1或2;
(2)当R1为-COOR1-1时,所述的R1-1为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基,优选乙基;
(3)当R1为C1-4烷基时,所述的R1为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基,优选甲基;
(4)R2为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基,优选甲基。
3.如权利要求2所述的应用,其特征在于,所述的磺酸亚胺类化合物为以下化合物中的任一种:
4.如权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的KrF厚膜光刻胶组合物包括:如权利要求1-3任一项所述的磺酸亚胺类化合物、光敏聚合物、三乙醇胺和溶剂;所述光敏聚合物为酚醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、丙烯酸类树脂或其组合。
5.如权利要求4所述的应用,其特征在于,所述的KrF厚膜光刻胶组合物由所述的磺酸亚胺类化合物、所述光敏聚合物、三乙醇胺和溶剂组成。
6.如权利要求4或5所述的应用,其特征在于,所述的KrF厚膜光刻胶组合物满足以下条件的一种或多种:
(1)所述的光敏聚合物为单体A、单体B和单体C进行加聚反应得到的光敏聚合物,所述的单体A为所述的单体B为所述的单体C为所述的单体A、所述的单体B和所述的单体C的摩尔比为66.5:8.5:25;
(2)所述的光敏聚合物的重均分子量为10,000至600,000;例如20,000至400,000;又例如22,000;
(3)所述的光敏聚合物的多分散系数为1至3,例如2.1;
(4)所述的溶剂为酯类溶剂,例如丙二醇单甲醚乙酸酯;
(5)所述的光敏聚合物的重量份数为100份;
(6)所述的磺酸亚胺类化合物的重量份数为5份,以100重量份光敏聚合物计;
(7)所述三乙醇胺的重量份数为0.1份,以100重量份光敏聚合物计;
(8)所述溶剂的重量份数为800份,以100重量份光敏聚合物计。
7.如权利要求6所述的应用,其特征在于,所述的KrF厚膜光刻胶组合物由5重量份的所述的磺酸亚胺类化合物、100重量份所述的光敏聚合物、0.1重量份的三乙醇胺溶解至800重量份的丙二醇单甲醚乙酸酯制备得到;其中,光敏聚合物为通过将所述单体A、所述单体B和所述单体C进行加聚反应得到;所述单体A、所述单体B和所述单体C的摩尔比为66.5:8.5:25,最终制备得到的光敏聚合物的重均分子量为22,000;其多分散性指数为2.1。
8.如权利要求6或7所述的应用,其特征在于,其满足以下条件的一种或多种:
(1)所述加聚反应的溶剂为酯类溶剂,优选为乙酸乙酯;
(2)所述加聚反应的温度为75~80℃,优选为78℃;
(3)所述加聚反应的时间为6~10h,优选为8h;
(4)所述的加聚反应结束后,可通过以下后处理步骤进行处理:1)将反应液与醇类溶剂混合,产生沉淀,将沉淀与酯类溶剂混合,溶解;2)重复1)操作3次,再与醇类溶剂混合,得到沉淀物,干燥即可;所述的醇类溶剂优选为甲醇;所述的酯类溶剂优选为乙酸乙酯。
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