[发明专利]一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9及其应用在审

专利信息
申请号: 202111448183.X 申请日: 2021-11-30
公开(公告)号: CN116199737A 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 王彦丰;丁宇;艾学龙;陈辉龙;王彦斌;王媛媛;姚翔;丁克祥 申请(专利权)人: 广州好美生物工程技术有限公司
主分类号: C07K7/06 分类号: C07K7/06;A61K38/08;A61K8/64;A61P17/18;A61Q19/08;C12Q1/02
代理公司: 杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289 代理人: 高明翠
地址: 511300 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 分子 表皮 细胞 调控 dkx 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9的氨基酸序列如SEQ ID No.1所示。

2.根据权利要求1所述的一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9通过人工化学固相合成法合成。

3.权利要求1所述的一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9的应用,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9在人表皮角质形成细胞的自噬调控上应用。

4.根据权利要求3所述的一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9的应用,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9在皮肤外用剂型或皮肤抗老化制剂中应用。

5.根据权利要求3所述的一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9的应用,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9可在面部美容化妆品中应用。

6.根据权利要求3所述的一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9的应用,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9通过上调正向自噬相关蛋白Beclin-1、LC3-II的表达水平、下调负向自噬相关蛋白p62的表达水平实现对人表皮角质形成细胞的自噬调控。

7.根据权利要求3所述的一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9的应用,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9通过提高LAMP1的表达量实现对人表皮角质形成细胞的自噬调控。

8.根据权利要求3所述的一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9的应用,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9通过提高TFEB的表达量实现对人表皮角质形成细胞的自噬调控。

9.根据权利要求3所述的低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9的应用,其特征在于,所述自噬调控肽DKX-9在预防或者治疗皮肤病药物中的配合应用。

10.根据权利要求3所述的一种低分子人表皮细胞自噬调控肽DKX-9的应用,其特征在于,所述的自噬调控肽DKX-9的有效浓度范围为25-100μmol/L。

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