[发明专利]提升脱模稳定性的压印方法及相关压印系统在审
申请号: | 202111451664.6 | 申请日: | 2021-12-01 |
公开(公告)号: | CN115340289A | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 蔡嵩玟 | 申请(专利权)人: | 永嘉光电股份有限公司 |
主分类号: | C03B11/16 | 分类号: | C03B11/16;C03B11/06;C03B11/00 |
代理公司: | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人: | 张坚 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提升 脱模 稳定性 压印 方法 相关 系统 | ||
1.一种压印方法,其特征在于,包括:
添加可溶解性材料至样模内;
固化该可溶解性材料以形成可溶解性模仁,该模仁具有凹凸结构;
于该模仁相对于该样模的一侧形成黏着剂;
附着取模装置于该黏着剂,其中该取模装置包含:
架体结构;
胶带,其设置于该架体结构;以及
支撑背板,其设置于该胶带,其中该取模装置以该支撑背板与该黏着剂相接触;
将该取模装置相对于该样模分离,其中该可溶解性模仁随着该取模装置相对于该样模分离;
放置该可溶解性模仁于高分子材料层上;
施予第一高温与压力至该可溶解性模仁,使该高分子材料层具有对应该凹凸结构的转印结构,并使该支撑背板与该胶带分离;
施予第二高温至该可溶解性模仁,使该高分子材料层固化,其中该第一高温与该第二高温的温度不同;以及
提供溶剂溶解该可溶解性模仁,使该固化后的高分子材料层与该支撑背板分离以取得具该转印结构的转印对象。
2.根据权利要求1所述的压印方法,其特征在于:
该第一高温的温度为60至150℃;施予该第一高温与压力的时间为0.5至30分钟;
该第二高温的温度为60至180℃;施予该第二高温的时间为1至600分钟。
3.根据权利要求2所述的压印方法,其特征在于:
该第一高温大于该第二高温;并且
施予该第一高温的时间多于施予该第二高温的时间;施予该第一高温的时间等于施予该第二高温的时间;或施予该第一高温的时间少于施予该第二高温的时间。
4.根据权利要求2所述的压印方法,其特征在于:
该第一高温小于该第二高温;并且
施予该第一高温的时间多于施予该第二高温的时间;施予该第一高温的时间等于施予该第二高温的时间;或施予该第一高温的时间少于施予该第二高温的时间。
5.根据权利要求1所述的压印方法,其特征在于:该可溶解性模仁具有第一对位记号,而该放置模仁于高分子材料层上的步骤包含:
放置待转印对象于机台平台上,该待转印对象具有基材层于该高分子材料层与该机台平台之间,该基材层具有第二对位记号;
以设置于该取模装置相反于该可溶解性模仁的一侧的摄像组件或设置于该机台平台相反于该待转印对象的一侧的摄像组件确认该第一对位记号与该第二对位记号是否对齐;以及
若对齐,则该可溶解性模仁与该高分子材料层接触;若未对齐,则以该机台平台为X-Y平面调整该可溶解性模仁的X轴与Y轴及其于X-Y平面的θ角,直到该第一对位记号与该第二对位记号对齐;
该放置模仁于高分子材料层上的步骤或包含:
放置待转印对象于机台平台上,该待转印对象具有基材层于该高分子材料层与该机台平台之间,该基材层具有第二对位记号;
该可溶解性模仁与该高分子材料层接触;以及
以设置于该取模装置相反于该可溶解性模仁的一侧的摄像组件或设置于该机台平台相反于该待转印对象的一侧的摄像组件确认该第一对位记号与该第二对位记号是否对齐;若未对齐,则以该机台平台为X-Y平面调整该模仁的X轴与Y轴及其于X-Y平面的θ角,直到该第一对位记号与该第二对位记号对齐;
该放置模仁于高分子材料层上的步骤或包含:
放置待转印对象于机台平台上,该待转印对象具有基材层于该高分子材料层与该机台平台之间,该基材层具有第二对位记号;
移动摄像组件至该可溶解性模仁与该待转印对象之间以确认该第一对位记号与该第二对位记号是否对齐;以及
若对齐,则复位该摄像组件且该可溶解性模仁与该高分子材料层接触;若未对齐,则以该机台平台为X-Y平面调整该模仁的X轴与Y轴及其于X-Y平面的θ角,直到该第一对位记号与该第二对位记号对齐。
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