[发明专利]一种光学透镜冷加工抛光工艺

权利要求书

1.一种光学透镜冷加工抛光工艺，其特征在于：冷加工抛光工艺包括以下步骤：

步骤一：选择合适且能够塑形的抛光盘

选择适合待抛光光学透镜直径的抛光盘，抛光盘为以树胶为基底的金刚砂抛光盘，金刚砂抛光盘为按质量份数配比，金刚砂抛光盘各组分比例为：金刚砂抛光粉40；树脂59.95；固化剂和促进剂0.05，金刚砂的目数为3000目；

步骤二：加工抛光盘

①将抛光盘吸持或夹持在工作台上，使用计算机数控打磨技术按照光学透镜的面形打磨，并保留0.1-0.2mm的加工余量；

②选择加工完毕且合格的光学透镜，采用仿形加工的方式对抛光盘进行精修打磨；

③对打磨完成后的抛光盘进行清洗并干燥，测定抛光盘面形数据，加工后的抛光盘面形精度需要控制在1/2λ以内，如精度不达标需要重复步骤二②；

④配制磁流变抛光液，将磁流变抛光液装于磁流变抛光槽中，利用固定装置将抛光盘固定于磁流变抛光液中，开启电机和磁场发生装置，根据抛光要求抛光10-30min，抛光结束后关闭抛光装置，取出抛光盘；

⑤对抛光完成后的抛光盘进行清洗并干燥，测定抛光盘粗糙度数据，加工后的抛光盘表面光洁度需要达到Ra 0.050，如精度不达标需要重复步骤二④；

步骤三：设置合适的抛光环境

①保持工作环境温度为20-25℃、湿度为30-60%；

②选择打磨合格的光学透镜，清洗并干燥后加热到40℃；

③储液池内的抛光液恒定温度保持在38-42℃；

步骤四：对光学透镜加工抛光

①将光学透镜吸持或夹持固定在打磨平台上；

②根据光学透镜的材质和尺寸设定抛光机主轴转速；

③使用恒定压力的浓度为6-12%的抛光液冲刷抛光位置，保持抛光部位温度恒定在39-41℃之间，通过抛光盘对光学透镜进行抛光，抛光5-8min；

④使用机械臂通过吸持的方式吸出光学透镜，对抛光后的光学透镜进行清洗并干燥，对光学透镜的抛光后，光学透镜的表面光洁度不小于Ra0.012，面形精度达到1/16λ，λ为波距。

2.根据权利要求1所述的一种光学透镜冷加工抛光工艺，其特征在于：所述步骤一中能够塑形的抛光盘留有5-10mm的打磨余量。

3. 根据权利要求1所述的一种光学透镜冷加工抛光工艺，其特征在于：所述步骤二中的磁流变抛光液的主要成分为羰基铁粉、铁钴合金及镍锌合金、复合软磁性颗粒其中的一种或多种，混合在合成油、矿物油、水其中的一种内，并添加了油酸及油酸盐、环烷酸盐、磷酸盐 、单油酸丙三醇、脂肪醇、二氧化硅中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的一种光学透镜冷加工抛光工艺，其特征在于：所述步骤二中根据抛光需求设定抛光盘抛光面与磁流变抛光槽底部之间的间隙距离为0.5-2mm。

5.根据权利要求1所述的一种光学透镜冷加工抛光工艺，其特征在于：所述步骤二中对抛光盘的固定方式为夹持的方式。

6.根据权利要求1所述的一种光学透镜冷加工抛光工艺，其特征在于：所述步骤二、步骤三和步骤四中出现的清洗并干燥的清洗方式为蒸馏水喷洗、超声波清洗、煮洗中的一种，干燥方式为加热干燥。

7.根据权利要求1所述的一种光学透镜冷加工抛光工艺，其特征在于：所述步骤四中的抛光液的冲刷压力为0.1Mpa-0.2Mpa。

8.根据权利要求1所述的一种光学透镜冷加工抛光工艺，其特征在于：根据被打磨的光学透镜的尺寸和材质，所述步骤四中抛光机的主轴转速为1500r/min-4000r/min。