[发明专利]一种光学透镜冷加工抛光工艺

说明书

本发明公开了一种光学透镜冷加工抛光工艺，涉及光学透镜加工领域，包括一下步骤：步骤一：选择合适且可塑形的抛光盘；步骤二：加工抛光盘；步骤三：设置合适的抛光环境；步骤四：对光学透镜加工抛光。本发明通过恒温的抛光液池喷出恒压的抛光液，以此来对透镜进行降温，使对光学透镜抛光的温度控制在四十度左右，大大提高了抛光光学透镜的良品率，提高抛光盘的表面光洁度，大大提高了抛光效率，经过加工后的抛光盘也可提高工件的面型精度，完成对工件的抛光且兼顾工件的面型精度，对抛光工作人员要求较低，工作效率高，生产经济效益好。

技术领域

本发明涉及光学透镜加工领域，具体为一种光学透镜冷加工抛光工艺。

背景技术

透镜是用透明物质制成的表面为球面一部分的光学元件，镜头是由几片透镜组成的，在天文、军事、交通、医学、艺术等领域发挥着重要作用，光学透镜作为这些领域的核心器件，在未来将会有更加广阔的市场前景。

现有的透镜加工工艺加工透镜的良品率较低，生产过程中对工作人员的专业素质要求较高，生产耗能较大，加工不稳定，工作效率低，加工周期长，生产成本较高。

发明内容

基于此，本发明的目的是提供一种光学透镜冷加工抛光工艺，以解决现有的透镜加工工艺加工透镜的良品率较低，生产过程中对工作人员的专业素质要求较高，生产耗能较大，加工不稳定，工作效率低，加工周期长，生产成本较高的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供一种光学透镜冷加工抛光工艺,包括以下步骤：

步骤一：选择合适且可塑形的抛光盘

选择适合待抛光光学透镜直径的打磨盘，抛光盘可为以树胶为基底压制的稀土抛光盘、以树胶为基底的金刚砂抛光盘等；

步骤二：加工抛光盘

①将抛光盘吸持或夹持在工作台上，使用计算机数控打磨技术按照光学透镜的面形打磨，并保留0.1-0.2mm的加工余量；

②选择加工完毕且合格光学透镜，采用仿形加工的方式对抛光盘进行精修打磨；

③对打磨完成后的抛光盘进行清洗并干燥，测定抛光盘面形数据，加工后的抛光盘面形精度需要控制在1/2λ以内，如精度不达标需要重复步骤二②；

④配制磁流变抛光液，将磁流变抛光液装于磁流变抛光槽中，利用固定装置将抛光盘固定于磁流变抛光液中，开启电机和磁场发生装置，根据抛光要求抛光10-30min，抛光结束后关闭抛光装置，取出抛光盘；

⑤对打抛光成后的抛光盘进行清洗并干燥，测定抛光盘粗糙度数据，加工后的抛光盘表面光洁度需要达到Ra 0.050，如精度不达标需要重复步骤二④；

步骤三：设置合适的抛光环境

①保持工作环境温度为20-25℃、湿度为30-60％；

②选择打磨合格的光学透镜，清洗并干燥后加热到40℃；

③储液池内的抛光液恒定温度保持在38-42℃；

步骤四：对光学透镜加工抛光

①将光学透镜吸持或夹持固定在打磨平台上；

②根据光学透镜的材质和尺寸设定抛光机主轴转速；

③使用恒定压力的浓度为6-12％的抛光液冲刷抛光位置，保持抛光部位温度恒定在39-41℃之间，抛光5-8min；

④使用机械臂通过吸持的方式吸出光学透镜，对抛光后的光学透镜进行清洗并干燥，对光学透镜的抛光后，光学透镜的表面光洁度不小于Ra0.012，面型精度达到1/16λ。