[发明专利]BOE废液在线再生的方法在审
申请号: | 202111460498.6 | 申请日: | 2021-12-03 |
公开(公告)号: | CN114148992A | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 周贞锋;应悦;应盛荣;姜战;闻涛 | 申请(专利权)人: | 浙江容跃环保科技有限公司 |
主分类号: | C01B7/19 | 分类号: | C01B7/19;C01C1/02;C09K13/08 |
代理公司: | 上海洞鉴知识产权代理事务所(普通合伙) 31346 | 代理人: | 刘少伟 |
地址: | 310051 浙江省杭州市滨*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | boe 废液 在线 再生 方法 | ||
本发明提出了一种BOE废液在线再生的方法,包括:BOE废液与氨或碱反应;再经过双极膜电渗析膜组处理;浓缩并精制为超纯氨水;将氢氟酸稀液蒸馏提浓后,与超纯浓硫酸混合,得到氟化氢气体和稀硫酸;稀硫酸用电渗析分离为超纯稀硫酸和废液,再经过加热浓缩为超纯浓硫酸和废水,超纯浓硫酸在本系统回用,废液和废水去污水处理站;氟化氢气体提纯,得到超纯氢氟酸溶液;与超纯氨水按照比例配制为BOE原液,加入表面活性剂后,回到半导体产线。本发明在线再生BOE废液,真正实现了变废为宝,循环经济,绿色环保的价值取向,适合工业化推广应用。
技术领域
本发明涉及废液回收领域,特别是指一种BOE废液在线再生的方法。
背景技术
BOE(Buffered Oxide Etch),缓冲氧化物蚀刻液,简称“缓冲蚀刻液”。由氢氟酸(HF)与氟化铵(NH4F)依不同比例混合而成。用于半导体元件(例如芯片)的蚀刻,HF主要起蚀刻反应作用,NH4F则作为缓冲剂使用;HF与硅反应,NH4F固定H+的浓度,使之保持一定的蚀刻率。
各工厂的BOE配比并不完全相同。6:1的BOE缓冲蚀刻液即表示49%HF水溶液与40%NH4F水溶液按照体积比1:6的成分混合而成,HF和NH4F混合后,部分形成氟化氢铵(NH4HF2)。正常情况下,对半导体元件的刻蚀速度约为10nm/sec。
当BOE蚀刻液使用一定时间后,就作为废液排出,成为BOE废液。
BOE废液主要成分为氟化铵(NH4F)和氟化氢铵(NH4HF2),同时含有少量的氟硅酸铵;属于危废!大部分半导体工厂委托有资质的危废处置单位进行无害化处理,即:通过加入石灰或消石灰,反应成氟化钙和氨水;有条件的处置单位会回收氨水,氟化钙成为污泥,作无害化填埋。这种处置方式成本高、污染大、污泥处置费用高,关键是资源没有得到有效利用,是一种得不偿失的方法。
通过回收处理,可以把BOE废液生产为氢氟酸和氨。
BOE蚀刻液虽然是由氢氟酸和氨组成,但氢氟酸和氨并不等于是BOE蚀刻液;半导体工厂产生的BOE废液只能委托有处理能力的工厂进行处理,并且要支付高昂的费用。而半导体工厂仍然要从市场采购BOE蚀刻液。
如果能把BOE废液能重新再生为BOE蚀刻液,回到半导体产线,半导体工厂就不再需要支付费用委外处理BOE废液,也可大大减低采购BOE蚀刻液的成本,不仅节省了BOE废液和BOE蚀刻液的运输成本,还可以使有效氟资源和氨资源得到全面的循环利用,是利国利民的好事。
因此,有必要研发一种BOE废液在线再生的方法,使BOE废液的有效资源得到全面的、省事的、节约成本的回收利用。
发明内容
本发明提出一种BOE废液在线再生的方法,解决了现有技术中BOE废液处理难以及无法再回到生产线的问题。
本发明的技术方案是这样实现的:
一种BOE废液在线再生的方法,包括:
BOE废液与氨反应,生成氟化铵溶液;所述氨浓度为NH3≥20%~99.9%;
所述氟化铵溶液配制为浓度5~25wt%,经过第一双极膜电渗析膜组分解为氢氟酸稀液和稀氨水;
所述稀氨水经过汽提蒸出氨气,并将所述氨气吸收为浓氨水(NH3≥20~25wt%);所述浓氨水经过高温高压蒸氨,得到NH3≥99.0%的液氨;所述液氨中的一部分返回与所述BOE废液反应;另一部分液氨精制得到超纯氨水;
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