[发明专利]液晶显示面板的制备方法有效
申请号: | 202111464567.0 | 申请日: | 2021-12-03 |
公开(公告)号: | CN114137766B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 刘倩 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/13 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨瑞 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 面板 制备 方法 | ||
1.一种液晶显示面板的制备方法,包括阵列基板、彩膜基板和位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层,其特征在于,所述方法包括:
步骤S1、提供一衬底、在所述衬底之上至少形成第一金属层、位于所述衬底上的第一金属层和且覆盖所述第一金属层的栅极绝缘层、位于所述栅极绝缘层上的第二金属层、位于所述第二金属层上的第一平坦化层、位于所述第一平坦化层上的PFA层、以及位于所述PFA层上的公共电极层,所述第一金属层包括公共电极信号输入电极和栅电极,所述第二金属层包括连接电极和漏电极,所述连接电极与所述公共电极信号输入电极电性连接;
步骤S2、由所述公共电极层向所述PFA层刻蚀第三过孔和第四过孔,且所述PFA层对应第三过孔和第四过孔的边缘位置均至少形成一步台阶,所述台阶优化了所述PFA膜层边缘倾斜角度,使所述倾斜角度变小,然后在所述公共电极层上形成光阻层;
步骤S3、图案化所述光阻层,以使所述公共电极层上以形成具有镂空图案,然后在镂空图案上形成第三金属层,并剥离剩余的所述光阻层;其中,所述第三金属层包括至少一条低电阻信号线,所述低电阻信号线与所述公共电极层电连接;
步骤S4、在所述公共电极层上制备覆盖所述第三金属层的第二平坦化层,在所述第二平坦化层上制备像素电极。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制备方法,其特征在于,步骤S3还包括:待所述第三金属层制备完成后,沿着第三过孔和第四过孔继续向所述第一平坦化层刻蚀,以形成所需的第一过孔和第二过孔。
3.根据权利要求2所述的液晶显示面板的制备方法,其特征在于,步骤S4具体包括:在所述第一过孔和所述第二平坦化层上制备像素电极,在所述第二过孔和所述第二平坦化层上制备搭接电极,所述公共电极层通过搭接电极和所述连接电极与所述公共电极信号输入电极电性连接,所述像素电极层通过所述第一过孔与所述漏电极电性连接。
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