[发明专利]液晶显示面板的制备方法有效
申请号: | 202111464567.0 | 申请日: | 2021-12-03 |
公开(公告)号: | CN114137766B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 刘倩 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/13 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨瑞 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 面板 制备 方法 | ||
本发明提供一种液晶显示面板的制备方法,本发明的液晶显示面板的制备方法中PFA层对应过孔的边缘位置均至少形成一步台阶,然后在公共电极层上形成光阻层;图案化光阻层,在公共电极层上以形成第三金属层,并剥离剩余的光阻层;本发明的第三金属层与公共电极层电连接,以降低公共电极层的阻抗,同时PFA层对应过孔的内壁位置上均至少设置有一步台阶,台阶结构优化PFA膜层边缘倾斜角度,使角度变小,坡度变缓,底部角度变缓,使边缘光阻PR堆积不容易掉落PFA层的过孔孔内,降低制程波动,无需额外加大公共电极的过孔边缘安全距离和像素电极的过孔边缘的安全距离,与现有技术对比之下,本发明提高背光的穿透率,降低HFS LCD显示屏功耗,从而提高显示效果。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种液晶显示面板的制备方法。
背景技术
在HFS显示模式中,公共电极和像素电极均制备在液晶显示面板的驱动电路层内,公共电极作为液晶偏转的一端,与像素电极共同形成水平电场,实现液晶偏转。阵列设置的像素作为显示区域、让背光通过像素的开口内射出,从而产生红、绿、蓝三原色光。为改善视角及提升显示效率,通常将开口区内让液晶偏转的像素电极设计成条纹状。在HFS显示模式中,通常公共电极为整面铺设的情况时,为降低公共电极的电阻、减小扫描线、数据线的信号扰动造成对公共电极的电容的耦合作用,从而提示显示效果,在公共电极上新增一层金属走线,新增金属走线会造成光罩数目增加,为减少光罩数目,常用方法为将金属走线和公共电极使用HTM工艺同一道光罩流程制作。
在新增金属走线和公共电极工艺制作流程中,由于大面积光罩以及像素电极与源漏极层联通的过孔的存在,需在曝光流程后,同时满足:1.残留光阻膜PR满足工艺要求且不破膜;2、与像素联通过孔中无光阻存在。通常情况下,为达到上述两点要求,设计需要将像素电极过孔边缘距离与过孔有一定的安全距离,防止光阻掉落联通孔内,一般制程要求此安全距离为2.5um以上。
上述新增金属走线的制备工艺加大公共电极的过孔边缘安全距离和像素电极与源漏极层联通的过孔边缘的安全距离,从而减小像素开口区面积,降低背光的穿透率,使得HFS LCD显示屏功耗增加、显示效果变差的问题,需要改进。
发明内容
本申请依据现有技术问题,提供一种液晶显示面板的制备方法,能够解决现有的HFS显示模式中新增金属走线的制备工艺加大公共电极的过孔边缘安全距离和像素电极与源漏极层联通的过孔边缘的安全距离,从而减小像素开口区面积,降低背光的穿透率,使得HFS LCD显示屏功耗增加、显示效果变差的问题。
为了解决上述技术问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明实施例提供一种液晶显示面板,该液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板和位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层,所述阵列基板至少包括衬底、位于所述衬底上的第一金属层和且覆盖所述第一金属层的栅极绝缘层、位于所述栅极绝缘层上的第二金属层、位于所述第二金属层上的第一平坦化层、位于所述第一平坦化层上的PFA层、位于所述PFA层上的公共电极层、位于所述公共电极层上的第三金属层和且覆盖所述第三金属层的第二平坦化层、以及位于所述第二平坦化层上的像素电极层;
所述第二平坦化层至所述第一平坦化层之间设置有第一过孔和第二过孔,所述像素电极层通过所述第一过孔与所述第二金属层中的漏电极电性连接,所述公共电极层通过所述第二过孔与所述第二金属层中的连接电极电性连接;
其中,所述PFA层对应所述第一过孔和所述第二过孔的内壁位置上均至少设置有一步台阶。
根据本发明一优选实施例,所述台阶围绕所述第一过孔和所述第二过孔的内壁设置,所述台阶在衬底平面上的投影呈闭环状。
根据本发明一优选实施例,所述台阶的宽度为2um-5um。
根据本发明一优选实施例,所述PFA层的材料为有机光阻材料。
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