[发明专利]一种耐高温自粘性纯聚乙烯保护膜及其制备方法

说明书

本发明涉及光学保护膜技术领域，提供了一种耐高温自粘性纯聚乙烯保护膜及其制备方法。本发明的耐高温自粘性纯聚乙烯保护膜由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成。本发明在外层加入聚烯烃塑性体，提高外层的自粘性；中层和内层采用高压低密度聚乙烯和高密度聚乙烯，提高薄膜的透明性和耐温性，同时中层还加入茂金属中密度聚乙烯，在提高薄膜挺度的同时进一步提高耐温性。本发明还提供了耐高温自粘性纯聚乙烯保护膜的制备方法。本发明在模头的第四加热区设置六段加热，每一段进行独立的温度控制，控温更精细，从而提高薄膜的均匀度和平整度；本发明在模头调节环外部设置环状六段加热系统，通过调整每个加热段的温度，实现出膜厚度均匀平整的效果。

技术领域

本发明涉及光学保护膜技术领域，尤其涉及一种聚乙烯保护膜及其制备方法。

背景技术

偏光片广泛应用于光电显示、太阳眼镜、防眩护目镜、摄影器材之滤光镜、偏光显微镜、3D眼镜、特殊医疗用眼镜等领域，其中应用在光电显示的市场规模及产值最大。

在制造和运输偏光片的过程中，为了防止偏光片表面的污染或损伤，需要在偏光片的表面贴合保护膜，PC、PMMA等偏光片的制备需要使用热压成型工艺，热压的温度较高，就要求保护膜也需要有较高的耐高温性能。目前，本领域常见的PE基材保护膜耐高温性差，在热压过程中容易发生软化，导致吸塑过程中发生不良现象。

专利CN111138986A中公开了一种耐高温静电膜，其中利用特定的聚乙烯原料与PP填料配合组成粘胶层、基材层和背胶层，从而提高静电膜的耐高温性。但是，该专利中粘性层、基材层和背胶层都加入了PP填料，且粘性层中还加入了SEBS，PP填料和SEBS加工温度高，与聚乙烯的温差大，且PP与聚乙烯的相容性不好，容易分层，制备过程中需要加入解卷母粒，容易出现析出现象，难以满足高品质偏光片的要求。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种耐高温自粘性纯聚乙烯保护膜及其制备方法和应用。本发明提供的保护膜是一种纯聚乙烯保护膜，不含PP填料，无需加入卷解母粒，制备过程中不易出现析出现象，且保护膜的耐高温性好。

为了实现上述发明目的，本发明提供以下技术方案：

一种耐高温自粘性纯聚乙烯保护膜，由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成；

所述外层的制备原料包括：茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体；所述茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体的质量比为4～8:2～6；

所述中层的制备原料包括：高压低密度聚乙烯、茂金属中密度聚乙烯和高密度聚乙烯；所述高压低密度聚乙烯、茂金属中密度聚乙烯和高密度聚乙烯的质量比为1～4:3～8:2～5；

所述内层的制备原料包括：高压低密度聚乙烯和高密度聚乙烯；所述高压低密度聚乙烯和高密度聚乙烯的质量比为5～16:4～25。

优选的，所述外层的制备原料中，茂金属低密度聚乙烯的熔指为2.0～3.0g/10min，密度为0.912～0.918g/cm³；

所述的外层的制备原料中，聚烯烃塑性体的熔指为3～4g/10min，密度为0.870～0.900g/cm³。

优选的，所述中层的制备原料中，中密度茂金属聚乙烯的熔指为0.5～2.0g/10min，密度为0.930～0.938g/cm³。

优选的，所述中层和内层的制备原料中，高压低密度聚乙烯的熔指独立地为1.5～3.0g/10min；密度独立地为0.920～0.930g/cm³。

优选的，所述中层和内层的制备原料中，高密度聚乙烯熔指独立地为0.5～1.0g/10min，密度独立地为0.950～0.965g/cm³。